• The Korean Journal of Rheology
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• v.3 no.1
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• pp.76-85
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• 1991

적은양의 분자량이 큰선형 고부자를 수용액에 첨가함으로서 얻어지는 마찰저항가소 연구가 rotating disk 장치를 이용해 수행되었다. 마찰저항 감소제로 poly(ethylene oxide)와 poly(acrylamide)를 사용하였으며 고분자 분자량 고분자 농도, disk 의 회전속도 및 온도 등 여러 가지 인자에 대한 마찰정항감소의 의존성을 연구하였다. 또한 마찰저항 감소 효과와 고분자 용액의 점도평균 분자량을 동시에 측정함으로서 고분자 퇴화에 대한 연구도 수행하 였다. 마찰저항감소는 고분자 농도가 증가함에 따라 임계농도에 도달할때까지 증가하였고 낮은 농도에서는 분자량이 큰 고분자일수록 더욱 큰 마찰저항 감소효과를 나타내었다. 마찰 감소 진행 중의 높은 전단력에 기인하는 고분자의 분해는 고분자 농도가 낮은데에서 더욱두 드러지게 나타났으며 온도 효과의 연구로부터 poly(acrylamide)가 poly(ethylene oxide)보다 열적으로 안정함을 알수 있었다.

• Polymer Science and Technology
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• v.2 no.3
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• pp.158-168
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• 1991

본고에서는 고분자절연체의 내부전하분포 측정을 위한 측정원리, 측정장치 및 실제측정예 등에 대하여 언급하였다. 이 방법은 고분자내에 존재하는 전하의 종류, 위치 및 전하량에 대한 정보를 얻을 수 있으므로 고분자의 절연성질을 이해하는데 도움을 줄 것으로 생각한다. 특히 폴리에틸렌의 경우 여러 가지 요인, 즉 수지의 종류 또는 첨가제의 유무 등에 의해 각기 다른 내부전하분포를 갖는다는 사실이 밝혀졌다. 이와 같은 사실은 고분자 내부에 존재하는 공간 전하 때문에 외부전압에 의한 전기장이 변형되고 이에 따라 고분자의 절연성질이 변형될 수 있다는 점을 생각할 때 매우 중요한 의미를 갖는다고 할 수 있다. 따라서 고분자의 절연성질에 대한 이해를 높이기 위하여는 절연성질과 내부전하분포와의 관계에 대한 보다 깊은 연구가 이루어져야 할 것으로 생각된다.

• The Korean Journal of Rheology
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• v.10 no.2
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• pp.98-105
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• 1998

가공공정중 변형을 수반하게 되는 고분자제품은 대부분 고분자사슬의 배향을 갖게 된다. 이렇나 사슬배향은 제품의 기계적, 광학적, 그리고 전기적 특성에 매우 중요한 영향을 미치는 것으로 알려져있다. 지금까지 고분자사슬의 배향상태를 나타내기 위한 여러방법은 모두 배향의 중심축을이 알려져 있다는 가정하에 전개되었다, 그러나 복잡한 배향모드를 갖 는 고분자가공의 경우에 배향중심측이 실험축과 일치하지 않는 경우가 많다 따라서 본연구 에서는 일반적인 고분자의배향상태를 나타내는 방법에 대해 알아보고 실제 고분자 가공공정 에 적용을 위해 실험적으로 배향의 대칭축을 찾을 수 있는 접근방법을 제시하고자 하였다. 그 결과 결정성 고분자의 배향상태를 광각 x-선 회절 data를 이용한2차배향 tensor를 통해 배향 타원체를 구성할수있었다. 이를PETdustls 필름과 HDPE사출성형물에 적용해 본 결과 이들의 2차 배향 tensor가 타원체를 잘 구성함을 알수 있었다. 또한 주어진 고분자의 결정 면들에 관계없이 고유한 중심축을 지니고 있음을 확인할수 있었다. 이를 통해 복잡한 배향 모드를 갖는 경우에 본연구에서 제안한 x-타원체를 통해 결정의 배향중심축을 효과적으로 찾을수 있음을 알수 있었다.

• Journal of Adhesion and Interface
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• v.9 no.4
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• pp.30-33
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• 2008

Two polymeric interfaces with single component homo-polymers were prepared to control the orientation of block copolymer thin-film nanostructures. Poly(4-acetoxy styrene) (OH-PAS) and poly(4-methoxy styrene) (OH-PMS) which have the average chemical composition of polystyrene-block-poly(methyl methacrylate) (PS-b-PMMA) were precisely synthesized through nitroxide-mediated radical polymerization. After dehydration reactions between above polymers and SiOx layers of silicon wafers, the polymer-modified interface induced partial (30%) vertical orientation of PS-b-PMMA thin film in the case of OH-PMS and wholly parallel orientation in the case of OH-PAS. Chemical compositions of polymeric interface layers are regarded as the key parameter to control the orientation of nanostructures of block copolymer thin film.

• Polymer Science and Technology
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• v.13 no.4
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• pp.422-430
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• 2002

• Polymer Science and Technology
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• v.13 no.4
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• pp.453-459
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• 2002

• Polymer Science and Technology
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• v.13 no.4
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• pp.447-452
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• 2002

• Polymer Science and Technology
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• v.13 no.4
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• pp.441-446
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• 2002

• Polymer Science and Technology
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• v.13 no.4
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• pp.431-440
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• 2002

• Polymer Science and Technology
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• v.14 no.3
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• pp.308-317
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• 2003