• 한국정보처리학회:학술대회논문집
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• 한국정보처리학회 2005년도 춘계학술발표대회
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• pp.727-730
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• 2005

계측기기의 사용업체들은 기기 관리부분 및 교정검사 주기가 상이한 계측기기 교정검사 관리부분의 어려움으로 인하여 교정검사 유효기간을 지나치는 경우가 많았으며, 국가교정검사 기관은 각 계측기기의 측정 데이터 결과 형식이 달라 교정검사 후 발행하는 성적서의 작성 및 발행 하는데 어려움이 많았다. 또한 계측기기 사용업체와 교정검사기관 모두 관리 프로그램과 교정검사 성적서 관리 프로그램을 별도로 사용하였다. 이러한 계측기기 및 성적서 관리를 하나의 시스템으로 쉽게 통합관리 할 수 있도록 구성 하였으며, 각각의 상이한 계측기기 주기 정보를 데이터베이스화 하여 주기별, 측정기기별, 업체별 검색 및 자동 팝업창으로 상태를 알려주게 하였고, 계측기기별 상이한 형식의 측정 데이터는 부서별, 유형별로 데이터베이스화 하여 응용프로그램과 연동될 수 있도록 구현 하였다. 계측기기 관리 및 교정검사 관리 부문에 있어서 사용 대상에 따라 GUI 환경으로 구현된 프로그램으로서 기본설정을 통하여 교정대상업체 및 교정검사기관 모두 하나의 통합된 프로그램으로 사용 및 관리를 할 수 있다.

• 광학세계
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• 통권107호
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• pp.18-24
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• 2007

광기술 발전의 핵심적인 역할을 수행하는 분야는 광 계측기로 우리나라의 경우 일반 계측기기는 선진국과 큰 차이를 보이지 않고 있으나, 광계측기기를 포함한 정밀계측기기 분야에서는 뒤처지고 있는 것이 사실이다. 현대 IT 산업기술의 특징은 부품 및 반도체 소자들은 계속 고집적.고밀도로 발전하고 있으며 하드 디스크나 필름 등 기록매체도 더욱 섬세한 단위로 내려가고 있고 각종 기계공학도 더욱 매끄러운 표면처리와 정밀성을 추구하고 있다. 이러한 나노테크놀로지를 선도하기 위해서는 광학분석, 레이저 측정, 이미지 프로세싱 등 나노미터 단위의 가공 또는 계측 등을 지원할 수 있는 기기의 지원이 필수적이다.

• 회원명부
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• 통권2001-02호
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• pp.132-183
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• 2001

네트워크/컴퓨터 및 주변기기/통신기기/영상 및 음향기기/방송기기/금융자동화기기/의료기기/자도차용전장품/보안감시기기/자동화기기/계측기기/사무기기/전자부품/생활가전/기타

• 광학세계
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• 통권103호
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• pp.41-50
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• 2006

렌즈를 계측해 이용하는 역사는 오래 되었으며, 그 응용 범위도 상당히 넓다. 광을 사용함으로써 비접촉 및 비파괴로 측정 대상물을 그대로 유지하면서 정보를 얻는 광의 직진성 및 고속 전파성을 이용할 수 있으며, 파장을 기준으로 한 계측이 가능함과 동시에, 특히 렌즈는 대상물의 정보를 결상에 의해 공간적으로 이동할 수 있다는 장점을 가져 각종 계측 기기에 폭 넓게 사용되고 있다. 본 고에서는 렌즈 응용 기기에 사용하는 렌즈를 분류한 후, 계측과 관련된 렌즈를 계측용 렌즈로 채택하여 그 현상과 동향을 정리하며, 요소 기술로서 렌즈 설계 및 제작 전반과 관련된 공통 기술 과제를 몇 가지 채택하여 로드맵으로 만들었다.

• 전자진흥
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• 제16권9호
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• pp.39-43
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• 1996

• 월간포장계
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• 통권345호
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• pp.79-83
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• 2022

• 광학세계
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• 통권103호
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• pp.36-40
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• 2006

광 계측 기술은 지금까지 단독으로 진보되어 온 것이 아니라, 다른 계측 수단과 병용함으로써 부가적인 정보를 부여하는 기술로서, 또 어느 대상 물체에 대하여 어떤 계측 조건하에서는 다른 계측 방법에 비하여 유효하게 사용할 수 있다는 관점에서 발전되어 왔다. 본 고에서도 각 응용 분야가 안고 있는 앞으로의 목표를 광 계측 기술을 어떻게 활용하면 달성할 수 있을지라는 관점에서 설명하였다.

• 한국정밀공학회지
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• 제21권12호
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• pp.7-12
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• 2004

• 광학세계
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• 통권104호
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• pp.52-58
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• 2006

종래 표면 형상 계측은 제조 공정에서 채택되어 계측에 적합하도록 가공된 소수의 샘플을 계측실이라는 조건이 갖추어진 환경에서 계측 시간에 대한 엄격한 제약 없이 이루어지는 소위 오프라인 계측이 일반적으로 행해졌다. 그러나 최근에는 더욱 향상된 견고성을 갖으면서 더욱 빠른 표면 형상 계측이 요구되고 있으며, 이러한 경향은 앞으로 계속될 것으로 예상된다. 이러한 배경 하에 본 고에서는 계측의 견고성과 고속성의 관점에서 본 광 표면형상 계측을 다루었다. 먼저 광 표면 형상 계측 기술의 현 상황을 개략적으로 설명한 후,견고성을 가지면서 고속의 표면 형상 계측 기법으로서, 현재 그리고 앞으로도 중요한 몇가지 기법에 대하여 최근의 동향을 간단하게 소개한다. 그런 다음에 로드맵을 상세하게 설명하기로 한다.

• 전자진흥
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• 제1권2호
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• pp.29-43
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• 1981