• Title/Summary/Keyword: 결정방향

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Optimal Designs of Urban Watershed Boundary and Sewer Networks to Reduce Peak Outflows (첨두유출량 저감을 위한 도시유역 경계 및 우수관망 최적 설계)

  • Lee, Jung-Ho;Jun, Hwan-Don;Kim, Joong-Hoon
    • Journal of the Korean Society of Hazard Mitigation
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    • v.11 no.2
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    • pp.157-161
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    • 2011
  • Although many researches have been carried out concerning the watershed division in natural areas, it has not been researched for the urban watershed division. If the boundary between two urban areas is indistinct because no natural distinction or no administrative division is between the areas, the boundary between the urban areas that have the different outlets (multi-outlet urban watershed) is determined by only designer of sewer system. The suggested urban watershed division model (UWDM) determines the watershed boundary to reduce simultaneously the peak outflows at the outlets of each watershed. Then, the UWDM determines the sewer network to reduce the peak outflow at outlet by determining the pipe connecting directions between the manholes that have the multi-possible pipe connecting directions. In the UWDM, because the modification of the sewer network changes the superposition effect of the runoff hydrographs in sewer pipes, the optimal sewer layout can reduce the peak outflow at outlet, as much as the superposition effects of the hydrographs are reduced. Therefore, the UWDM can optimize the watershed distinction in multi-outlet urban watershed by determining the connecting directions of the boundary-manholes using the genetic algorithm. The suggested model was applied to a multi-outlet urban watershed of 50.3ha, Seoul, Korea, and the watershed division of this model, the peak outflows at two outlets were decreased by approximately 15% for the design rainfall.

Microstructure and Etching Morphology of Copper Electrodeposits (구리 전해도금 박막의 미세조직에 따른 에칭 특성)

  • Park, Chae-Min;Song, Yeong-Seok;Kim, Sang-Hyeok;Sin, Han-Gyun;Lee, Hyo-Jong
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2014.11a
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    • pp.132-133
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    • 2014
  • 구리도금 및 적절한 어닐링 공정을 통해 수nm 크기의 초기 도금 미세조직과 수${\mu}m$정도의 결정립 크기를 갖는 재결정이 진행된 결정립이 병존하는 도금막 샘플을 제작하였다. 전기 비저항 측정과 EBSD를 통해 결정립 성장 분율을 측정하였으며 다양한 사이즈와 결정 방향을 갖는 결정립에 대해 질산용액을 이용하여 화학적 에칭방법을 통해 간접적으로 각 구리원자의 화학적 안정성을 평가할 수 있었다. 결과적으로 결정립이 클수록 에칭속도가 느린 것을 확인하였으며, 주요 원인으로 결정립계면이 우선적으로 에칭되는 것이 관찰되었다. 즉, 결정립의 크기가 작을수록 결정립계면의 비율이 커서 에칭속도가 증가하고 Nanosize의 초기 결정립이 빨리 에칭되는 것이 확인되었다.

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Omnidirectionally Beam-Steerable Orthogonal Loop Resonator with Switch for Wireless Power Transfer (무선전력전송용 스위치가 장착된 직교루프 전방향 빔조향 공진기)

  • Choi, Bo-Hee;Lee, Jeong-Hae
    • The Journal of Korean Institute of Electromagnetic Engineering and Science
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    • v.26 no.3
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    • pp.300-304
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    • 2015
  • This paper presents an omnidirectionally beam-steerable orthogonal loop resonator for wireless power transfer. The resonator is composed of two orthogonal loops. These connections of two loops and the current direction on the loops are determined by the control of switch. The magnetic field direction is determined by the vector sum of each loop current. The beam is steerable to eight directions by four switch modes. Using the suitable switch mode, the simulation and measurement efficiencies in the whole azimuthal direction are 56.3~60.0 %(deviation 3.7 %) and 41.2~48.7 %(deviation 7.5 %), respectively. The results show a little variation of transmission efficiency in the azimuthal direction.

A Location Management Scheme using Direction Characteristics of Mobile Terminals in Mobile Communication Systems (이동 통신 시스템에서 이동 단말의 방향성을 고려한 위치 관리 기법)

  • 김태수;송의성;한연희;황종선;길준민
    • Journal of KIISE:Information Networking
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    • v.30 no.1
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    • pp.48-64
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    • 2003
  • Recently, as the number of mobile users keeps increasing explosively, the location management to track the mobile users in mobile communication systems is being more important. However, the previous location management schemes have been used static location information without the consideration of a user's moving direction. This results in unnecessary pagings, consequently it increases location management costs. In this paper, we propose a mew location management costs. In this paper, we propose a new location the cell occurred a location update. It also determines whether the location update will be executed or not, by the offset operation of direction vector. Thus, a user's paging areas are generated dynamically along the user's moving direction. The wide of paging areas is also determined dynamically. Besides, we present analytic model for our scheme. To compare with our scheme, the distance-based scheme is analyzed. The numerical result shows that our scheme is more efficient than the distance-based scheme in the most cases except a low CMR. Particularly if a user move into a specific direction, our scheme has the lower location management cost than that of the distance-based scheme.

방위산업 자주국방의 초석 국내기술의 결정-유지.발전 정책방향에 대한 제언

  • Choe, Seong-Bin
    • Defense and Technology
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    • no.3 s.169
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    • pp.14-21
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    • 1993
  • 현재 방위산업의 전망이 불투명한 상황에서, 정부는 국가안보 자산으로서의 방위산업에 대한 중요성을 재인식하고 뚜렷한 방위산업 유지 및 발전 방향을 제시해야 합니다 또한 이를 일관성 있게 추진함으로써 민간기업들의 방위산업에 대한 참여의욕을 고취시켜, 경제발전에 상응하는 방위산업의 발전을 도모해야 할 것입니다

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대학입학사정관제 지원사업 도입의 과제 및 추진방향

  • Nam, Bo-U
    • 대학교육
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    • s.149
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    • pp.90-94
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    • 2007
  • 대학입학사정관제란 대입관련 자료를 조사 및 심사하여 입학 여부를 결정하는 전문가를 활용하여 학생의 성적, 환경, 잠재력 소질 등을 포괄적으로 판단하여 신입생을 선발하는 제도로서 중등교육의 정상화 및 대학에서의 우수인재 선발에 기여할 것으로 기대된다. 이에 제도의 도입에 따른 과제 및 앞으로의 추진방향 등에 관해 살펴보기로 한다.

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주요 국가의 망 중립성 정책 추진 방향

  • Byeon, Jae-Ho
    • Information and Communications Magazine
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    • v.30 no.7
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    • pp.42-49
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    • 2013
  • 인터넷 망의 중립성 확보를 위해 FCC가 2005년 망중립성 원칙을 발표한 이래 망중립성 확보를 위한 집중적인 논의와 다양한 시도가 이루어져 왔다. 본고에서는 망중립성 논의가 이루어진 배경, 주요 쟁점을 살펴보고, 미국, 일본, EU, 영국 등 주요국에서 결정된 망중립성 정책방향 및 그 특징을 검토해보고자 한다.

Determination of Optimal Cluster Size Using Bootstrap and Genetic Algorithm (붓스트랩 기법과 유전자 알고리즘을 이용한 최적 군집 수 결정)

  • 박민재;전성해;오경환
    • Proceedings of the Korean Institute of Intelligent Systems Conference
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    • 2002.12a
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    • pp.263-266
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    • 2002
  • 데이터의 군집화를 수행할 때 최적 군집수 결정은 군집 결과의 성능에 많은 영향을 미친다. 특히 K-means 방법에서는 초기 군집수 K에 따라 군집결과의 성능 차이가 많이 나타난다. 하지만 대다수의 군집분석에서 초기 군집수의 결정은 경험을 바탕으로 하여 주관적으로 결정된다. 이때 개체수와 속성수가 증가하면 이러한 결정은 더욱 어려워지며 이때 결정된 군집수가 최적이 된다는 보장도 없다. 본 논문에서는 군집의 수를 자동으로 결정하고 그 결과의 유효성을 보장하기 위해 유전자 알고리즘에 기반한 최적 군집수 결정 방안을 제안한다. 데이터의 속성에 근거한 초기 해 집단이 생성되고, 해 집단 내에서 최적화된 군집수를 찾기 위해 교차 연산이 이루어진다. 적합도 값은 전체 군집화의 비 유사성의 합의 역으로 결정되어 전체적인 군집화 성능이 향상되는 방향으로 수렴된다. 또한 지역 국소값을 해결하기 위해 돌연변이 연산이 사용된다. 그리고 유전자 알고리즘의 학습 시간의 비용을 줄이기 위해 붓스트랩 기법이 적용된다.

Determination of Dose Correction Factor for Energy and Directional Dependence of the MOSFET Dosimeter in an Anthropomorphic Phantom (인형 모의피폭체내 MOSFET 선량계의 에너지 및 방향 의존도를 고려하기 위한 선량보정인자 결정)

  • Cho, Sung-Koo;Choi, Sang-Hyoun;Na, Seong-Ho;Kim, Chan-Hyeong
    • Journal of Radiation Protection and Research
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    • v.31 no.2
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    • pp.97-104
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    • 2006
  • In recent years, the MOSFET dosimeter has been widely used in various medical applications such as dose verification in radiation therapeutic and diagnostic applications. The MOSFET dosimeter is, however, mainly made of silicon and shows some energy dependence for low energy Photons. Therefore, the MOSFET dosimeter tends to overestimate the dose for low energy scattered photons in a phantom. This study determines the correction factors to compensate these dependences of the MOSFET dosimeter in ATOM phantom. For this, we first constructed a computational model of the ATOM phantom based on the 3D CT image data of the phantom. The voxel phantom was then implemented in a Monte Carlo simulation code and used to calculate the energy spectrum of the photon field at each of the MOSFET dosimeter locations in the phantom. Finally, the correction factors were calculated based on the energy spectrum of the photon field at the dosimeter locations and the pre-determined energy and directional dependence of the MOSFET dosimeter. Our result for $^{60}Co$ and $^{137}Cs$ photon fields shows that the correction factors are distributed within the range of 0.89 and 0.97 considering all the MOSFET dosimeter locations in the phantom.

The influence of mechanical damage on the formation of the structural defects on the silicon surface during oxidation (규소 결정 표면의 구조 결함의 형성에 미치는 기계적 손상의 영향)

  • Kim, Dae-Il;Kim, Jong-Bum;Kim, Young-Kwan
    • Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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    • v.15 no.2
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    • pp.45-50
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    • 2005
  • During oxidation process, several type of defects are formed on the surface of the silicon crystal which was damaged mechanically before oxidation. As the size of abrasive particle increases multiple dislocation loops are produced favorably over oxidation-induced stacking faults, which are dominantly produced when ground with finer abrasive particle. These defects are not related with the crystal growth process like Czochralski or directional solidification. During directional solidification process, twins and stacking faults are the two major defects observed in the bulk of the silicon crystal. On the other hand, slip dislocations produced by the thermal stress are not observed. Thus, not only in single crystalline silicon crystal but also in multi-crystalline silicon, extrinsic gettering process with programmed production of surface defects might be highly applicable to silicon wafers for purification.