• Title/Summary/Keyword: 게르마늄 나노구조체

Search Result 3, Processing Time 0.017 seconds

펨토초 레이저 초미세 공정 응용 나노바이오 기술개발

  • Jeong, Se-Chae
    • 기계와재료
    • /
    • v.17 no.2 s.64
    • /
    • pp.41-49
    • /
    • 2005
  • 펨토초 레이저 기반 초미세 공정 기술은 타 레이저 응용 분야에 비하여 그 역사는 길지 않다. 그러나 본 공정 기술은 기계적-열적 유발 손상을 최소화 할 수 있으며 공정 정밀도를 획기적으로 향상 할 수 있다는 장점으로 인하여 IT, NT 및 BT 등 다양한 형태의 첨단 산업 분야에서 그 응용성 및 적용성이 검토되고 있는 분야이다. 이상의 다양한 응용 분야 중 현재 연구실에서 진행되고 있는 나노바이오 기술에서의 펨토초 레이저 초미세 공정 기술의 적용 과정과 현재 수행되고 있는 분야들 중 게르마늄 나노 구조체 형성 및 크기 제어 연구, 펨토초 레이저 초미세 공정 기술의 세포 성장 제어 및 단세포 기반 미세수술과 마이크로 유체 디바이스 제작 및 관련 측정 기술들을 소개하고자 한다.

  • PDF

Application of Ultrafast Laser for Micro-packaging and Germanium Surface Processing (초고속레이저 기반 마이크로 패키징 및 게르마늄 표면 공정 기술 개발)

  • Jeoung, S.C.;Yahng, J.S.
    • Journal of the Korean Vacuum Society
    • /
    • v.16 no.1
    • /
    • pp.74-78
    • /
    • 2007
  • Much interests has been drawn for noble micro-engineering processes for the continuous size reduction on bulk materials from the field of micro-electronics with much downsized IC chips. A traditional microprocessing based on mechanical blade as well as a relatively long pulsed laser usually influence the physico-chemical properties of intact materials when the techniques are applied to process materials with a spatial resolution less than 10 microns. Meanwhile, ultrafast laser pulses are known to exhibit a very small heat-affect zone(HAE) compared to the traditional laser processing and to be applicable for the new functional materials with high performance in optical and electrical properties. In this report, we will review in brief the recent research works on the enhancement of micro-cutting speed of thin silicon wafer as well as the formation of Ge nanostructures based on ultrafast laser pulses.