유도결합 플라즈마를 이용한 $HfAlO_3$ 박막의 식각특성 연구
(Study of etching properties of the $HfAlO_3$ thin film using the inductively coupled plasma)
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- 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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- 한국전기전자재료학회 2009년도 하계학술대회 논문집
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- pp.73-73
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- 2009