• 제목/요약/키워드: (Ba, Sr)$TiO_3$

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Tunable microwave device에 사용될 수 있는 (Ba,Sr)$TiO_3$ 박막의 유전특성 향상에 관한 연구 (Enhanced dielectric properties of (Ba.Sr)$TiO_3$ thin films applicable to tunable microwave devices)

  • 박배호
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2001년도 추계학술대회 논문집
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    • pp.73-76
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    • 2001

  • We deposited epitaxial $Ba_{0.6}$S $r_{0.4}$Ti $O_3$(BST) films having thickness of 400 nm on MgO(001) substrates, where a 10 nm thick $Ba_{1-x}$S $r_{x}$Ti $O_3$(x=0.1-0.7) interlayer was inserted between BST and MgO to manipulate the stress of the BST films. Since the main difference of those epitaxial BST films was the lattice constant of the interlayers, we were very successful in controlling the stress of the BST films. BST films under small tensile stress showed larger dielectric constant than that without stress as well as those under compressive stress. Stress relaxation was investigated using epitaxial BST films with various thicknesses grown on different interlayers. For BST films grown on $Ba_{0.7}$S $r_{0.3}$Ti $O_3$ interlayers, the critical thickness was about 600 nm. On the other hand, the critical thickness of single-layer BST film was less than 100 nm.00 nm.m.m.m.

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Zr이 첨가된 $({Ba_{1-x}},{Sr_x})TiO_3$ 박막의 미세구조와 전기적 성질 (Microstructures and Electrical Properties of Zr Modified $({Ba_{1-x}},{Sr_x})TiO_3$ Thin Films)

  • 박상식
    • 한국재료학회지
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    • 제10권9호
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    • pp.607-611
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    • 2000

  • 고밀도 DRAM에서 박막 커패시터로의 적용을 위해 Zr이 첨가된 (Ba(sub)1-x, Sr(sub)x)TiO$_3$<원문차조> 박막이 r.f. magnetron sputter-ing 법에 의해 제조되었다. 증착된 박막들은 다결정질 구조를 보였으며 증착압력이 감소함에따라 Zr/Ti의 비가 현저히 증가하였으며 본 연구에서는 얻어진 박막들은 100kHz에서 380∼525의 유전상수값을 나타냈다. 전압에 따른 커패시턴스와 분극량의 변화는 이력특성을 크게 보이지 않아 상유전상으로 형성되었음을 보였다. 누설전류밀도는 증착압력이 감소함에 따라 작아지는 경향을 보였고 10mTorr이상에서 증착된 박막의 경우 200kV/cm의 전계에서 10(sup)-7∼10(sup)-8A/$\textrm{cm}^2$의 차수를 갖는 누설전류밀도를 보여 본 연구에서 제조된 (Ba(sub)1-x, Sr(sub)x)(Ti(sub)1-x, Zr(sub)x)O$_3$<원문참조>박막은 고밀도 DRAm을 위한 커패시터에의 적용가능성을 보였다.

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캐패시터용 강유전체 박막의 제조 및 특성 (Fabrication and Properties of Ferroelectric Thin Film for Capacitor)

  • 소병문;박춘배
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 1999년도 추계학술대회 논문집 전문대학교육위원 P
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    • pp.31-34
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    • 1999

  • In the present study, we fabricated stoichiometric $(Ba_{1-x}Sr_x)TiO_3$ thin films at various substrate temperature and contents using of magnetron sputtering method on optimized Pt-based electrodes (Pt/TiN/$SiO_2$/Si). The substate temperature deposited at 200[ $^{\circ}C$], 400[$^{\circ}C$] and 600[$^{\circ}C$] and crystalline BST thin films show above 400[$^{\circ}C$]. Also, the composition of $(Ba_{1-x}Sr_x)TiO_3$ thin films deposited on Si wafer substrate at 400[$^{\circ}C$] were closed to stoichiometry($1.015{\sim}1.093$ in A/B ratio), but compositional deviation from a stoichiometry is larger as $SrCO_3$ is added. The drastic decrease of dielectric constant and increase of dielectric loss in $(Ba_{1-x}Sr_x)TiO_3$thin films is observed above 100[kHz]. V-I characteristics of $(Ba_{1-x}Sr_x)TiO_3$ thin films show the decrease of leakage current with the increase of $SrCO_3$ contents.

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졸-겔법을 이용한$(Ba_{1-x}Sr_x)TiO_3$분말합성 (A Synthesis of $(Ba_{1-x}Sr_x)TiO_3$ Powders by Sol-Gel Route)

  • 김영석;김덕준;김환
    • 한국재료학회지
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    • 제2권2호
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    • pp.151-156
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    • 1992

  • 본 연구에서는 $Ba(OH)_2{\cdot}8H_2O,\;Sr(OH)_2{\cdot}8H_2O$ 및 $Ti(i-OC_3H_7)_4$를 사용하여 졸-겔법에 의해 미세한 $(Ba_{1-x}Sr_{x})TiO_3$ 분말을 제조하였다. TEM 관찰, BET 비표면적측정 및 XRD회절도의 분석결과 $700^{\cric}C$에서 하소한 뚠말의 입자크기는 20~40nm이고 입방정상으로 존재하였다. 또한 XRD 회절도고부터 계산된 격자상수 및 (112)피크의 이동으로부터 고용체분말이 형성되었음을 확인할 수 있었다. 제조된 분말에서의 EDAX 분석을 통한 양이온들의 상대적인 비율 및 소결체에 대한 유전상수의 측정결과로부터 제조된 분말에서 양이온들의 분포가 입자단위에서 균질함을 예상할 수 있었다.

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Electrical Properties of (Ba, Sr)TiO$_3$ Thin Film Deposited on RuO$_2$Electrode

  • Park, Chi-Sun;Kim, In-Ki
    • Transactions on Electrical and Electronic Materials
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    • 제1권4호
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    • pp.30-39
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    • 2000

  • The variation of electrical properties of (Ba, Sr)TiO$_3$[BST] thin films deposited of RuO$_2$electrode with (Ba+Sr)/Tr ration was investigated. BST thin films with various (Ba+Sr)/Tr ration were deposited on RuO$_2$/Si substrates using in-situ RF magnetron sputtering. It was found that the electrical properties of BST films depends on the composition in the film. The dielectric constant of the BST films is about 190 at the (Ba+Sr)/Tr ration of 1.0, 1,025 and does not change markedly. But , the dielectric constant degraded to 145 as the (Ba+Sr)/Tr ratio increase to 1.0. In particular, the leakage current mechanism of the films shows the strong dependence on the (Ba+Sr)/Tr ration in the films. At the ration (Ba+Sr)/Tr=1,025, the Al/BST/RuO$_2$ capacitor show the most asymmetric behavior in the leakage current density, vs, electric field plot. It is considered that the leakage current of the (Ba+Sr)/Tr=1,025 thin films is controlled by the battier-Iimited process, i,e, Schottky emission.

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