• 제목/요약/키워드: $SiO_2-P_2O_5-B_2O_3$ Glass Soot

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화염 가수분해 증착에 의해 형성된 $SiO_2-P_2O_5-B_2O_3$ 유리 미립자의 특성 (Characterization of $SiO_2-P_2O_5-B_2O_3$ Glass Soot fabricated by Flame Hydrolysis Deposition)

  • 최춘기;정명영;최태구
    • 한국세라믹학회지
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    • 제34권8호
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    • pp.811-816
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    • 1997
  • SiO2-P2O5-B2O3 glass soot was fabricated by flame hydrolysis deposition and their properties by SEM, XRD, TGA-DSC were investigated., The mechanism of consolidation process of a glass soot as a function of consolidation temperature was analyzed by SEM observations. In the XRD patterns, the crystalline peaks which seem to be generated from B2O3 and BPO4 were observed. When the temperature of heat treatment exceeded 105$0^{\circ}C$, the non-crystalline state of SiO2-P2O5-B2O3 glass was observed. In the TGA-DSC curves, the evaporation of water molecule by a sudden endothermic reaction was observed at 128$^{\circ}C$ and a broad endothermic peak was seen in the temperature range of 40$0^{\circ}C$-95$0^{\circ}C$, without any weight loss. Finally, this peak was began to recover its baseline at 953$^{\circ}C$. This point is equal to the temperature at which the densification begins. Furthermore, we observed that the addition of dopants such as P2O5 and B2O3 decrease the onset of consolidation temperature till 95$0^{\circ}C$.

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FHD법에 의한 $B_2O_3-P_2O_5-SiO_2$ 실리카막의 효과적인 $P_2O_5$ 도핑 (The Effective $P_2O_5$ Doping into $B_2O_3-P_2O_5-SiO_2$ Silica Layer Fabrication by Flame Hydrolysis Deposition)

  • 심재기;이윤학;성희경;최태구
    • 한국세라믹학회지
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    • 제35권4호
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    • pp.364-370
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    • 1998
  • 광집적회로용 평면도파로를 구현하기 위한 $B_2O_3-P_2O_5-SiO_2$ 실리카 광도파막을 실리콘 기판위에 FDH(Flame Hydrolysis Depositon)법으로 제조하여 미립자의 미세구조, 실리카막의 굴절률과 조성을 고찰하였다. FHD법에서 도펀트(dopant)물질로, $B_1\;P_1\;Ge$ 등의 산화물이 사용되며, $B_1$ Ge 산화물의 경우 $SiO_2$와의 결합특성이 우수하여 비교적 도핑(doping)이 용이하지만 P의 경우 $P_2O_5$의 낮은 융점에 의한 증발 등으로 효과적인 도핑이 어렵다. 수직형 FHD 토치를 사용하고 화염온도, 기판온도, 토치와 기판간의 거리를 최적화하여 P 농도가 3.3 Wt%이상이고 고밀화 온도가 $1180^{\circ}C$ 이하인 양질의 실리카막을 얻었다. 실리카막의 굴절률은 $1.55\;\mu\textrm{m}$ 파장에서 $1.4480{\pm}1{\times}10^{-1}$로 측정되었으며, $22{\pm}1\;\mu\textrm{m}$의 두께를 보였다.

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FHD 공정으로 Si wafer에 증착된 silicate soot의 부분 소결 처리가 굴절률 변화에 미치는 영향 (Effect of partial sintering of silicate soots on refractive index of the silcate glass films deposited by FHD Process)

  • 유성우;정우영;백운출;한원택
    • 한국광학회:학술대회논문집
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    • 한국광학회 2002년도 하계학술발표회
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    • pp.46-47
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    • 2002
  • Flame Hydrolysis Deposition (FHD) 공정은 SiC1$_4$, GeCl$_4$, POC1$_3$, BCl$_3$ 등의 원료를 사용하여 Si wafer 및 유리기판 위에 silicate soot를 증착하는 방법이며, 증착된 soot는 고온에서 소결과정을 거쳐 B$_2$O$_3$-P$_2$O$_{5}$ -GeO$_2$-SiO$_2$(BPGS)계 유리막으로 형성된다. 유리막의 굴절률은 SiC1$_4$, GeCl$_4$, POC1$_3$, BCl$_3$ 등의 원료 유량을 조절하여 변화가능하며 이를 이용하여 광도파로를 제작할 수 있다 특히 광통신에 사용할 수 있는 광증폭기 등의 능동형 광소자 제작을 위해서는 FHD공정을 통해 형성된 soot에 Er$^{3+}$ 등의 희토류 원소를 첨가하여야 한다. (중략)

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