• 제목/요약/키워드: $SiH_2Cl_2

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화학증착(CVD)에 의한 선택적 수소 투과성 실리카막의 제조 (Synthesis of $H_2$-Permselective Silica Films by Chemical Vapor Deposition)

  • 남석우;하호용;홍성안
    • 멤브레인
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    • 제2권1호
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    • pp.21-32
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    • 1992
  • 화학증착법을 사용하여 다공성 Vycor 유리에 선택적 수소 투과성 실리카 막을 제조하였다. 화학증착에는 $SiCl_4$의 가수분해 반응이 이용되었으며, 반응물인 $SiCl_4$와 물을 서로 반대 방향으로 주입하여 막을 제조하는 opposing-reactants film deposition방법과, 반응물을 다공성 유리관의 한쪽으로만 공급하는 one-sided film deposition 방법을 모두 사용하였다. 제조된 실리카 막을 통한 수소의 투과도는 $600^{\circ}C$ 이상의 온도에서 $0.01-0.25cm^3(STP)/cm^2-min-atm$의 범위에 있었으며, 수소의 질소에 대한 투과도 비는 1000정도였고, 온도의 증가에 따라 실리카 막을 통한 수소 및 질소의 투과도는 증가하였다. Opposing reactants film deposition 방법으로 제조된 실리카 막은 비교적 안정성은 높으나 수소의 투과도가 낮은 반면, one-sided film deposition 방법을 사용하면 수소의 투과도는 높으나 안정성이 낮은 막이 얻어졌다. 이러한 실리카 막은 고온에서의 기체분리 및 분리막 반응기에 응용하기 위하여는 높은 선택적투과성 및 안정성이 요구되며 막 제조 조건 및 방법이 최적화되어야 함을 알 수 있었다.

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Coating Performance of SiO2 / Epoxy Composites as a Corrosion Protector

  • Rzaij, Dina R.;Ahmed, Nagham Y.;Alhaboubi, Naseer
    • Corrosion Science and Technology
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    • 제21권2호
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    • pp.111-120
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    • 2022
  • To solve the corrosion problem of industrial equipment and other constructions containing metals, corrosion protection can be performed by using coating which provides a barrier between the metal and its environment. Coatings play a significant role in protecting irons and steels in harsh marine and acid environments. This study was conducted to identify an anti-corrosive epoxy coating for carbon steel composite with 0.1, 0.3, and 0.5 wt% concentrations of nanoparticles of SiO2 using the dip-coating method. The electrochemical behavior was analyzed with open circuit potential (OCP) technics and polarization curves (Tafle) in 3.5 wt% NaCl and 5 vol% H2SO4 media. The structure, composition, and morphology were characterized using different analytical techniques such as X-ray Diffraction (XRD), Fourier Transform Infrared spectrum (FT-IR), and Scanning Electron Microscopy (SEM). Results revealed that epoxynano SiO2 coating demonstrated a lower corrosion rate of 2.51 × 10-4 mm/year and the efficiency of corrosion protection was as high as 99.77%. The electrochemical measurement showed that the nano-SiO2 / epoxy coating enhanced the anti-corrosive performance in both NaCl and H2SO4 media.

Hybrid Plasma Processing에 의한 Si3N4-SiC계 미립자의 합성과정 제어 (Process Control for the Synthesis of Ultrafine Si3N4-SiC Powders by the Hybrid Plasma Processing)

  • 이형직
    • 한국세라믹학회지
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    • 제29권9호
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    • pp.681-688
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    • 1992
  • Ultrafine Si3N4 and Si3N4+SiC mixed powders were synthesized through thermal plasma chemical vapor deposition(CVD) using a hybrid plasma, which was characterized by the supersposition of a radio-frequency plasma and arc jet. The reactant SiCl4 was injected into an arc jet and completely decomposed in a hybrid plasma, and the second reactant CH4 and/or NH3 mixed with H2 were injected into the tail flame through double stage ring slits. In the case of ultrafine Si3N4 powder synthesis, reaction efficiency increased significantly by double stage injection compared to single stage one, although crystallizing behaviors depended upon injection speed of reactive quenching gas (NH3+N2) and injection method. For the preparation of Si2N4+SiC mixed powders, N/C composition ratio could be controlled by regulating the injection speed of NH3 and/or CH4 reactant and H2 quenching gas mixtures as well as by adjusting the reaction space.

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오이(Cucumis sativus)에 함유된 Hydroperoxide Lyase와 Lipoxygenase 효소 활성 및 특성 (Characteristics of Hydroperoxide Lyase and Lipoxygenase Activity in Cucumber (Cucumis sativus) Fruit)

  • 장미진;조일영;이시경
    • 한국식품과학회지
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    • 제29권2호
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    • pp.314-319
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    • 1997
  • 오이의 향을 결정짓는 휘발성 물질을 형성하는데 연관된 lipoxygenase와 hydroperoxide lyase는 저장 기간, 기질 용액의 pH, NaCl 농도와 온도 변화에 따른 활성을 비교 검토시 매우 유사함이 관찰되었는데, 이는 좋은 오이 향을 최대화하고 유지 보존하는 것이 거의 비슷한 조건이나 환경 안에서 가능함을 시사한다. Hydroperoxide lyase 활성은 pH 5.0일 때 최대치를 보여 주었고, lipoxygenase는 pH 5.5에서 최대 활성을 나타내었다. Hydroperoxide lyase와 lipoxygenase 활성은 $40^{\circ}C{\sim}50^{\circ}C$ 사이에서 안정하였으며, $60^{\circ}C$에서 5분 유지 후 결과는 효소 활성이 약 65%로 감소되었고, 그 이상의 온도에서는 활성도가 급격하게 감소하였다. Lipoxygenase의 활성은 동일 온도에서 비슷한 특성을 나타내었으나 높은 온도에서도 약 3% 정도의 활성을 유지하였다. 그러나 hydroperoxide lyase의 경우에는 높은 온도에서 수분 안에 아무런 활성도 보이지 않음을 알 수 있다. 두 효소의 최대 활성 NaCl 농도는 0.2 M이고, NaCl을 0.2 M까지 첨가시 오히려 NaCl이 없을 때보다 높은 활성을 보였으며 이는 NaCl이 두 효소의 활성을 자극시킴을 보여준다.

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A Study of Properties of 3C-SiC Films deposited by LPCVD with Different Films Thickness

  • Noh, Sang-Soo;Seo, Jeong-Hwan;Lee, Eung-Ahn
    • Transactions on Electrical and Electronic Materials
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    • 제9권3호
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    • pp.101-104
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    • 2008
  • The electrical properties and microstructure of nitrogen-doped poly 3C-SiC films were studied according to different thickness. Poly 3C-SiC films were deposited by LPCVD(low pressure chemical vapor deposition) at $900^{\circ}C$ and 4 Torr using $SiH_2Cl_2$ (100 %, 35 sccm) and $C_2H_2$ (5 % in $H_2$, 180 sccm) as the Si and C precursors, and $NH_3$ (5 % in $H_2$, 64 sccm) as the dopant source gas. The resistivity of the 3C-SiC films with $1,530{\AA}$ of thickness was $32.7{\Omega}-cm$ and decreased to $0.0129{\Omega}-cm$ at $16,963{\AA}$. In XRD spectra, 3C-SiC is so highly oriented along the (1 1 1) plane at $2{\theta}=35.7^{\circ}$ that other peaks corresponding to SiC orientations are not presented. The measurement of resistance variations according to different thickness were carried out in the $25^{\circ}C$ to $350^{\circ}C$ temperature range. While the size of resistance variation decreases with increasing the films thickness, the linearity of resistance variation improved.

Efficient Synthesis of hypho-2,5-$S_2B_7H_{11}$ and Preparation of New nido-, arachno-, and hypho-Metalladithiaborane Clusters Derived from Its Anion hypho-$S_2B_7H_{10}{^-}$

  • 강창환;김성준;고재정;강상욱
    • Bulletin of the Korean Chemical Society
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    • 제16권11호
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    • pp.1067-1074
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    • 1995
  • Reaction of arachno-S2B7H8- with either THF or 1,2-dimethoxyethane upon refluxing condition results in the formation of the previously known compound hypho-S2B7H10-. Protonation of hypho-S2B7H10- with HCl/Et2O generates hypho-2,5-S2B7H11 in good yield. This hypho-S2B7H10- anion has been employed to generate a series of new nido-, arachno-, and hypho-metalladithiaborane clusters. Reaction of the anion with Cp(CO)2FeCl results in direct metal insertion and the formation of a complex containing the general formula (η5-C5H5)FeS2B7H8. Spectroscopic studies of nido-6-CpFe-7,9-S2B7H8 Ⅰ demonstrated that compound Ⅰ was shown to have an nido-type cage geometry derived from an octadecahedron missing one vertex, with the iron atom occupying the three-coordinate 6-position in the cage and the two sulfurs occupying positions on the open face of the cage. Reaction of hypho-S2B7H10- with CoCl2/Li+[C5H5]- gave the previously known complex arachno-7-CpCo-6,8-S2B6H8 Ⅱ. Also, the reaction of the anion with [Cp*RhCl2]2 gave the complex arachno-7-Cp*Rh-6,8-S2B6H8 Ⅲ, the structure of which was shown to be that of complex Ⅱ. The similarity of the NMR spectra of Ⅱ and Ⅲ suggest that Ⅲ adopts cage structure similar to that previously confirmed for Ⅱ. A series of 9-vertex hypho clusters in which the sulfur atoms are bridged by different species isoelectronic with a BH3 unit, such as HMn(CO)4 or SiR2 have been prepared. Compounds Ⅳ,Ⅴ and Ⅵ are each 2n+4 skeletal electron systems and would be expected according to skeletal electron counting theory to adopt hypho-type polyhedral structures derived from an icosahedron missing three vertices. The complex hypho-1-(CO)4Mn-2,5-S2B6H9 Ⅳ was obtained by the reaction of the anion with (CO)5MnBr and has been shown from spectroscopic data to consist of a (CO)4Mn fragment bound to the two sulfur atoms S2 and S5 of hypho-S2B7H10-. Also, similar hypho-type complexes hypho-1-R2Si-2,5-S2B6H8 (R=CH3 Ⅴ, R=C6H5 Ⅵ) have been prepared from the reaction of hypho-S2B7H10- with R2SiHCl.

HCL가스에 의한 실리콘 기판의 에칭 (Vapor Etching of Silicon Substrates with HCL Gas)

  • 조경익;윤동한;송성해
    • 대한전자공학회논문지
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    • 제21권5호
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    • pp.41-45
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    • 1984
  • 양질의 에피택셜 층을 성장시키기 위해서는, 에피택셜 층을 성장시키기 직전에 HCl 가스를 사용하여 실리콘 기판을 에칭하는 과정이 거의 언제나 포함된다. 본 논문에서는, 대기압[1 기압]과 감압[0.1기압]에서 HCl 가스 농도와 에칭 온도의 변화에 따른 에칭속도 및 에치-피트 생성에 관하여 조사하였다. 그 결과, 대기압 공정과 감압 공정 모두 에칭 속도는 HCI 가스 농도의 2승[X ]에 비례하였으며, 명목상 활성화 에너지는 0∼11 Kcal/mole인 것으로 나타났다. 이러한 결과로부터, 감압 공정에서 HCl 가스에 의해 실리콘이 에칭되는 것은 대기압 공정에서와 같이 다음과 같은 반응에 의해 일어난다고 예측된다; Si + 2HCl ↔SiCl2 + H2.

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점착성 유사의 침강특성에 관한 연구 (Study of Settling Properties of Cohesive Sediments)

  • 최인호;김종우
    • 한국습지학회지
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    • 제19권3호
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    • pp.303-310
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    • 2017
  • 본 연구의 목적은 난류흐름에서 이온의 영향아래 점착성 유사의 침강특성을 이해하는데 있다. 실험연구는 자유수면을 가지는 소형 환형수조에서 실시하였다. 실험에서 유사 재료로써 실리카($SiO_2$)를 사용하였으며, 부유농도는 CCD-Camera로 측정하였다. 실리카의 침강실험은 7g/L의 농도일 경우 다양한 바닥전단응력을 부여해 실시되었다. 바닥전단응력이 증가하게 되면 실리카의 플럭(floc)입자 입경(D)은 pH6.8에서보다 pH4.2와 높은 NaCl 농도에서 더 크다. 실리카의 침강속도($W_s$)는 pH4.2에서보다 10g NaCl/L에서 더 높다. 본 연구에서 예측된 농도-시간 곡선은 실제 흐름에서 이온의 영향아래 실측된 농도-시간 곡선과 잘 일치하는 것으로 나타났다.

비스(트리메틸실릴메틸) 1,2-비스(디페닐포스피노)에탄니켈(II)의 합성 및 반응 (Preparation and Reactions of Bis(trimethylsilylmethyl)-1,2-bis(disphenylphosphino)ethanenickel(II))

  • 진종식
    • 대한화학회지
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    • 제25권5호
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    • pp.311-317
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    • 1981
  • 새로운 니켈(II) 화합물, 비스(트리메틸실릴메틸)1,2-(비스디페닐포스피노) 에탄니켈(II)(1)이 디클로로-1,2-비스(디페닐포스피노)에탄니켈(Ⅱ)와 트리메틸실릴메틸리튬의 반응으로부터 합성되었다. 화합물 1은 질소하, 상온에서 안정하다. 화합물 1은 열분해하여 환원성짝지음 생성물, 1,2-비스(트리메틸실릴)에탄을 생성한다. 화합물 1은 상온에서 일산화탄소 및 산소와, 그리고 80${\circ}$C에서 1,2-비스(디페닐포스피노)에탄과 반응하여 역시 1,2-비스(트리메틸실릴)에탄을 생성한다.

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