$10Li_2O$.$(90-x)B_2O_3$.$xSiO_2$ 기초유리에 $Al_2O_3$ 또는 $MoO_3$를 첨가한 유리를 열처리한 후 열수 또는 산처리하여 이온교환성 다공질 유리를 제조하였다. 그리고 $Al_2O_3$ 또는 $MoO_3$ 첨가가 분상과 양이온교환능(CEC)에 미치는 영향을 조사하였다. 이들 유리의 분상최적조건은 48$0^{\circ}C$, 10시간 열처리하였다. 분상은 $Al_2O_3$ 10mol%까지는 급격히 억제되고 그 이후에는 분상억제 효과가 완화되었다. 양이온교환능의 최대값은 $1OLi_2O$.$45B_2O_3$.$45SiO_2+7.5Al_2O_3$ 조성유리를 열수처리한 다공질유리에서 약 252meq/100g을 나타냈으며 이 유리의 세공평균반경은 약 16.3A이었다. $MoO_3$ 첨가는 분상과 용출속도를 증가시켰다. $MoO_3$첨가에 의해 다공질유리의 세공반경과 세공용적이 크게 증가하는 것으로 보아 $MoO_3$는 유리의 붕산염상중의 실리카 농도를 낮추고 용출처리중 실리카를 수용성 착체로 형성시키는 효과가 있다고 생각된다.
The effect of the heat treatment on electrochromic properties of $MoO_3$ thin films is investigated by studing optical modulation, optical density, response time, and cyclic voltammetry. From the results of XRD analysis, heat-treated at $450^{\circ}C$ in air for 1 hour $MoO_3$ thin films are found to be crystalline while as-deposited film and heat-treated at low temperature (${\leq}300^{\circ}C$) are amorphous. The electrochrornic devices using as-deposited $MoO_3$ films exhibits good electrochromic properties compare to those using the heat treated $MoO_3$ films. It has shown that the heat-treatment affected the stability and the electrochromic properties of $MoO_3$ films.
Conductive $SrMoO_3$ thin films were fabricated by RF magnetron sputtering with the powder-type sputtering target, and annealed for crystallization. When RTP (rapid thermal processing) in vacuum was applied, the fabricated thin films showed the mixed phases of $SrMoO_3$ and $SrMoO_4$, but $SrMoO_3$ phase could be promoted by the lowering of the working pressure during deposition. In order to eliminate $O_2$ gas during deposition and annealing, further lowering of the working pressure and furnace annealing in hydrogen atmosphere were tried. With the optimization of the deposition and annealing conditions, the thin film with nearly single-phase of $SrMoO_3$ was obtained, and it showed good electrical conduction properties with a low resistivity of $2.5{\times}10^{-3}{\Omega}{\cdot}cm$ at room temperature.
A series of Molybdenum thiocyanate complex has been prepared as new compound: $MoO_2(CNS)_2Py$, $MoO(CNS)_4Py$, $MoO_2(CNS){\cdot}3Py$, $MoO(CNS)_3{\cdot}2NH_3{\cdot}MoO(CNS)_3{\cdot}2HCONH_2$, where Py = Pyridine. Properties and configuration of the complexes were studied by chemical and physical method.
본 연구는 아크롤레인의 선택산화반응에서 Mo-V-O와 금속산화물의 기계적 혼합촉매에 대한 synergy 효과를 고찰한 것으로 금속산화물로는 $SnO_2$, ${\alpha}-Sb_2O_4$, $WO_3$, ${\alpha}-Al_2O_3$, CuO, $MnO_2$, $Cu_2O$, MgO, CoO 그리고 ZnO 등을 사용하였다. $SnO_2$나 ${\alpha}-Sb_2O_4$와 Mo-V-O의 혼합물 촉매는 Mo-V-O보다 높은 전화율과 수율을 나타내었는데 이것은 이들이 산소 빈자리에 해리 홉착된 산소를 형성하여 Mo-V-O에 전달하는 상간협동에 의한 것으로 판단된다 그러나 $Cu_2O$, MgO, CuO, $MnO_2$와 Mo-V-O의 혼합물 촉매의 경우 전화율은 증가하였으나 수율은 감소하였고, CoO와 ZnO는 Mo-V-O의 촉매성능을 억제하였다. 각 금속산화물의 역할이 서로 다른 점을 그들의 산화-환원 특성으로 설명하였다.
본 연구에서는 BaTiO3에 Sr과 Pb를 치환시켜TiO3 조성의 세라믹 유전체를 제조한 후 페로브스카이트형 Ba(Cu, Mo)O3를 저융점 flux 로 첨가하여 120$0^{\circ}C$ 이하의 여러온도에 서 소결을 행하였으며 flux 첨가량의 변화에 따른 소결거동 및 유전 특성의변화를 조사하였 다. 이러한 저온 소결용 유전체 세라믹스가 MLCC의 응용시 Pt-Pd계의합금을 내부전극으로 사용가능성을 검토하였다. Flux를 4mol%첨가한 TiO3-0.04Ba(Cu,Mo)O3 조성의 유전체는 120$0^{\circ}C$의 온도에서 2시간 소결했을 경우 소결밀도는 이론밀도의 95% 에 근접하였으며 이때 의 비유전율은 8000이상을 나타내었다. 이러한 소결 온도의 감소는 저융점인 ba(Cu,Mo)O3 계의 flux가 첨가되면서 비교적 낮은 온도에서 액상을 형성하여 소결을 촉진시켰기 때문으 로 사료된다.
메탄올 용액에서 3-메톡시살리실알데히드와 몰리브덴산암모늄으로 부터 디옥소비스메톡시살리실알데히다토 몰리브데늄(VI) 착물을 합성하고 이를 일차아민과 반응시켜 MoO$_2$(CH$_3$O-sal-N-R)$_2$, (R;일차아민)형의 시프-염기착물을 합성하였다. 이들에 대한 원소분석, 스펙트라의 해석 그리고 전기전도도의 측정으로 부터 착물의 성질과 그 구조를 추정하였다. 적외선 스펙트라에서 Mo=O 신축진동에 기인한 두 개의 흡수띠가 900cm$^{-1}$부근에서 관찰되었으며 이는 Mo(VI) 착물이 cis-MoO$_2$형으로 되어있음을 나타낸다. 또한 MoO$_2$와 배위자 사이의 결합비가 1:2임을 알 수 있었다. 이들 착물의 전자스펙트라에서 배위자로부터 금속으로 전하이동전이가 일어났다. 이들 착물은 노란색 혹은 오렌지색깔을 띠며 비극성물질로서 알코올이나 디클로로메탄, 클로로포름 및 디메틸프름 아마이드에 약간 녹인다.
The Near-Edge X-ray Absorption Fine Structure (NEXAFS) technique and Differential Scanning Calorimetry (DSC) were utilized to investigate the reaction of CH4 and O2 on the MoO3/SiO2 catalyst. The NEXAFS results showed that the stoichiometry of the molybdenum oxide catalyst supported on silica was MoO3. MoO3 was reduced to MoO2 when the catalyst was exposed to CH4 at 773 K. NEXAFS results confirm that lattice oxygen is directly related to the process of CH4 oxidation which takes place on the surface of MoO3/SiO2 catalysts. DSC results show that the structure of MoO3 changes around 573 K and this structural change seems to improve the migration of oxygen in the lattice.
High Temperature wear behavior of plasma sprayed ZrO$_2$ and MoS$_2$, $Fe_2O_3$ coatings were investigated for high temperature wear resistance applications. The MoS$_2$, $Fe_2O_3$ added powders containing 2.5, 5.0, 7.5, 10.0 mol% of $MoS_2$, $Fe_2O_3$ for plasma spray were made by spray drying method. Wear test were performed at temperature ranges from room temperature to 600$\circ$C. The microstructural change of coatings and the worn. surface were examined by SEM and XRD. In ZrO$_2$ coating, the coefficient of friction and wear amount of room temperature to 400$\circ$C was increased with temperature and decreased with temperature over 400$\circ$C. The coefficient of friction and wear amount of MoS$_2$ added coatings were increased with temperature, but those of $Fe_2O_3$ added coatings had lower coefficient of friction and higher wear resistance than ZrO$_2$ coating.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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