Reactive ion etching of InP using $Cl_2/CH_4/H_2$ discharges
($Cl_2/CH_4/H_2$ 혼합기체를 이용한 InP 소재의 반응성 이온 에칭에 관한 연구)
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- Journal of the Korean Vacuum Society
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- v.6 no.3
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- pp.282-286
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- 1997