• Bulletin of the Korean Chemical Society
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• 제28권10호
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• pp.1781-1786
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• 2007

Two copper(II) complexes, [CuL3](ClO4)2 bearing one N-CH2CH2CONH2 group as well as one N-CH2CH2CN group and [CuL4](ClO4)2 bearing two N-CH2CH2CONH2 groups, have been prepared by the selective hydrolysis of [CuL2](ClO4)2 (L2 = C-meso-1,8-bis(cyanoethyl)-5,5,7,12,12,14-hexamethyl-1,4,8,11-tetraazacyclotetradecane). The complex [CuL5](ClO4)2 bearing one N-CH2CH2C(=NH)OCH3 and one N-CH2CH2CN groups has been prepared as the major product from the reaction of [CuL2](ClO4)2 with methanol in the presence of triethylamine. In acidic aqueous solution, the N-CH2CH2C(=NH)OCH3 group of [CuL5](ClO4)2 undergoes hydrolysis to yield [CuL6](ClO4)2 bearing both N-CH2CH2COOCH3 and N-CH2CH2CN groups. The crystal structure of [CuL5](ClO4)2 shows that the complex has a slightly distorted square-pyramidal coordination polyhedron with an apical Cu-N (N-CH2CH2C(=NH)OCH3 group) bond. The apical Cu-N bond distance (2.269(3) A) is ca. 0.06 A longer than the apical Cu-O (N-CH2CH2CONH2 group) bond of [CuL4](ClO4)2. The pendant amide group of [CuL3](ClO4)2 is involved in coordination. The carboxylic ester group of [CuL6](ClO4)2 is also coordinated to the metal ion in various solvents but is removed from the coordination sphere in the solid state.

• Bulletin of the Korean Chemical Society
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• 제5권1호
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• pp.3-16
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• 1984

The effect of solvent on the dipole moments for (chloromethyl) stannanes has been investigated by applying EHT calculation for the isomers of trigonal bipyramidal Sn(Ⅳ)$Cl_4X$ and $Cl_n$Sn(Ⅳ) $(CH_2Cl)_{4-n}$, octahedral Sn(Ⅳ)$Cl_42X$ and $Cl_nSn$(Ⅳ)$(CH_2Cl)_{4-n}$ 2X type complexes in dioxane and ethylacetate solutions (X: dioxane or ethylacetate). For Sn(Ⅳ)$Cl_4$ in dioxane solution, the calculated dipole moment for the trigonal bipyramidal Sn(Ⅳ)$Cl_4X$ type complex [isomer (b)] is closer to the experimental dipole moment than octahedral Sn(Ⅳ)$Cl_4X$2X type complexes. This calculated dipole moment suggests that Sn(Ⅳ)$Cl_4X$ may have the trigonal bipyramidal structure in dioxane solution. However, the calculated dipole moment for octahedral $Cl_3$Sn(Ⅳ) ($CH_2$Cl)2X type complex [Isomer (d)], ClSn(Ⅳ)(CH2Cl)32X type complex [Isomer(k)] and Cl2Sn(Ⅳ)(CH2Cl)22X type complex [Isomer(h)] are closer to the experimental dipole moments than other isomers for octahedral complexes and trigonal bipyramidal complexes. Such theoretical results indicate that $Cl_3Sn$(Ⅳ )($CH_2Cl$), ClSn(Ⅳ)$(CH_2Cl)_3$ and $Cl2Sn$(Ⅳ)$(CH_2Cl)_2$ complexes may have octahedral structures, Isomer(d), (k) and (h) in ethylacetate solution, respectively.

• 대한기계학회:학술대회논문집
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• 대한기계학회 2004년도 추계학술대회
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• pp.1128-1133
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• 2004

A comprehensive experimental and numerical study has been conducted to understand the influence of $CH_{3}Cl$ addition on $CH_{4}/O_{2}/N_{2}$ premixed flames under the oxygen enrichment. The laminar flame speeds of $CH_{4}/CH_{3}Cl/O_{2}/N_{2}$ premixed flames at room temperature and atmospheric pressure are experimentally measured using Bunsen nozzle flame technique, varying the amount of $CH_{3}Cl$ in the fuel, the equivalence ratio of the unburned mixture, and the level of the oxygen enrichment. The flame speeds predicted by a detailed chemical kinetic mechanism employed are found to be in excellent agreement with those deduced from experiments. As $CH_{3}Cl$ addition is increased temperature at the postflame is not almost varied but the heat release rate and $EI_{NO}$ are decreased. The function of $CH_{3}Cl$ as inhibitor on hydrocarbon flames becomes weakened as the level of the oxygen enrichment is increased from 0.21 to 0.5.

• 대한기계학회논문집B
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• 제29권2호
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• pp.255-262
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• 2005

A comprehensive experimental and numerical study has been conducted to understand the influence of $CH_{3}Cl$ addition on $CH_4/O_2/N_2$ premixed flames under the oxygen enrichment. The laminar flame speeds of $CH_4/CH_{3}Cl/O_2/N_2$ premixed flames at room temperature and atmospheric pressure are experimentally measured using Bunsen nozzle flame technique, varying the amount of $CH_{3}Cl$ in the fuel, the equivalence ratio of the unburned mixture, and the level of the oxygen enrichment. The flame speeds predicted by a detailed chemical kinetic mechanism employed are found to be in excellent agreement with those deduced from experiments. Even though the molar amount of $CH_{3}Cl$ in a methane flame is increased, temperature at the postflame is not significantly varied, but the calculated heat release rate and emission index of NO are largely decreased for the oxygen enhanced flame. The function of $CH_{3}Cl$ as inhibitor on hydrocarbon flames becomes weakened as the level of the oxygen enrichment is increased from 0.21 to 0.5.

• 청정기술
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• 제16권3호
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• pp.198-205
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• 2010

염화탄화수소 열분해와 생성물분포 특성을 고찰하기 위해 등온 관형 반응기를 이용해 두 가지 실험을 수행하였다. 첫 번째는 반응분위기에 따른 열분해 특성을 파악하기 위해 $H_2$ 또는 Ar 반응분위기에서 dichloromethane ($CH_2Cl_2$) 분해율과 생성물분포 특성을 고찰하였다. Ar 반응분위기($CH_2Cl_2$/Ar 반응계)에서 보다 $H_2$ 반응분위기($CH_2Cl_2/H_2$ 반응계)에서 $CH_2Cl_2$ 분해율이 더 높았다. 이는 반응성 기체인 $H_2$ 분위기에서 $CH_2Cl_2$ 분해를 촉진시키며 수소 첨가 탈염소반응을 통해 탈염소화된 탄화수소화합물을 생성시키며, 다환방향족탄화수소 (polycyclic aromatic hydrocarbon: PAH)와 soot 생성을 억제하기 때문이다. $CH_2Cl_2/H_2$ 반응계에서 주요생성물로 탈염소화합물인 $CH_3Cl,\;CH_4,\;C_2H_6,\;C_2H_4,\;HCl$ 등이 생성되었으며, 미량 생성물로 chloroethylene이 검출되었다. $CH_2Cl_2$/Ar 반응계에서는 탄소물질수지가 낮았으며 특히 반응온도 $750^{\circ}C$ 이상에서 탄소물질 수지가 더 낮게 나타났다. 주요 생성물로는 chloroethylene과 HCl이 검출되었으며, 미량 생성물로는 $CH_3Cl$과 $C_2H_2$이 검출되었다. 고온 Ar 반응분위기에서 $CH_4$ 주입에 따른 chloroform($CHCl_3$) 분해와 생성물분포 특성을 비교 고찰하였다. $CHCl_3$ 분해율을 비교해 보면 $CH_4$을 주입할 경우($CHCl_3/CH_4/Ar$ 반응계)가 $CH_4$을 주입하지 않았을 경우($CHCl_3$/Ar 반응계)보다 분해율이 낮았다. 이는 $CHCl_3$가 분해되면서 생성되는 활성도가 큰 이중라디칼(diradical)인 :$CCl_2$가 첨가물로 주입된 $CH_4$와 반응하여 소모됨으로써 $CHCl_3$ 분해율이 상대적으로 감소되기 때문이다. Ar 반응분위기에서 $CH_4$ 첨가 여부에 따라 $CHCl_3$이 분해되면서 생성되는 생성물 분포는 큰 차이를 나타내고 있었다. 앞에서 고찰된 각 반응계에서 분해율 비교와 생성물 분포특성을 고려하고 열화학이론 및 반응속도론을 기초로 주요 반응경로를 제시하였다.

• 대한화학회지
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• 제24권1호
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• pp.8-14
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• 1980

메틸클로로휘메이트, $CH_3O$(CO)Cl와 메틸티오노클로로휘메이트, $CH_3O$(CS)Cl 및 메틸티올클로로휘메이트, $CH_3S$(CO)Cl의 가용매분해반응속도상수를 아세톤-물 및 아세토니트릴-물혼합용매중에서 전기전도도법으로 측정했으며 활성화파라미터, ${\Delta}H^{\neq}$ 와 ${\Delta}S^{\neq}$를 구하였다. 그 결과로 물함량이 큰 영역에서는 속도순위가 $$CH_3O(CO)Cl 이며, 한편 dipolar aprotic solvent가 큰 부분에서는 속도의 순위가 거꾸로 임을 알았다. log k대 solvent parameter인 Y, $\frac{D-1}{2D+1}$ 와 log($H_2$) 의 plots는 물함량이 큰 부분에서 $S_N1$ 성격이 증가함을 보여준다. 물함량이 큰 영역에서 $CH_3O$(CO)Cl은 $S_N2$로 $CH_3O$(CS)Cl은 중간정도의 메카니즘으로 반응하나 $CH_3S$(CO)Cl은 $S_N1$ 메카니즘으로 반응함을 알았다.

• 대한화학회지
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• 제43권2호
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• pp.150-155
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• 1999

소량의 $CH_3Cl$ 기체를 첨가한 $C_2H_6-O_2-Ar$ 혼합 기체의 점화 지연 시간을 반사 충격파 이후의 온도가 1270∼1544 K인 범위에서 측정하였다. 실험 결과 $CH_3Cl$ 기체가 $C_2H_6$ 기체의 점화 과정을 지연시킴을 알 수 있었고, $CH_3Cl$ 기체의 농도가 증가함에 따라 점화 지연 시간이 증가함을 알 수 있었다. 그리고 $C_2H_6-CH_3Cl-O_2-Ar$ 혼합 기체에서 $CH_3Cl$ 기체의 점화 억제 효과를 반응 메카니즘 시각으로 살펴보기 위하여 컴퓨터를 이용한 모의 실험을 수행하였다.

• 대한화학회지
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• 제24권2호
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• pp.139-145
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• 1980

마크로사이클리간드인 1,4,8,11-테트라아자사이클로테트라데칸 (cyclam)과 비환형 리간드인 1,5,8,12-테트라아자도데칸 (3,2,3-tet)의 높은 스핀철(Ⅱ) 착화합물이 합성되었다. 낮은 스핀인 $[Fe(cyclam)(CH_3CN)_2](ClO_4)_2$는 메탄올속에서 염소이온과 반응하여 높은 스핀인 $[Fe(cyclam)Cl]ClO_4$를 생성한다. $[Fe(cyclam)(CH_3CN)_2](ClO_4)_2$는 낮은 스핀이지만 $[Fe(3,2,3-tet)(CH_3CN)_2](ClO_4)_2$는 높은 스핀을 가지며 이 차이는 비환형 리간드가 환형 리간드보다 압축효과가 작은 것으로 설명된다. $[Fe(cyclam)Cl]ClO_4$의 합성은 마크로사이클리간드가 불포화되어 있거나 치환체가 있어야 높은 스핀 다섯배위철(II) 착화합물의 합성이 가능하다는 지금까지의 전해에 반대되는 증거가 된다. $[Fe(cyclam)Cl]ClO_4$와 $[Fe(3,2,3-tet)(CH_3CN)_2](ClO_4)_2$는 일산화탄소와 반응해서 각기 낮은 스핀 여섯배위인 $[Fe(cyclam)Cl(CO)]ClO_4$ 와 $[Fe(3.2,3-tet)(CH_3CN)(CO)](ClO_4)_2$를 만든다.

• 한국결정학회지
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• 제9권2호
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• pp.107-113
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• 1998

Ar하에서 trans-FeHCl(dppe)2, 1을 4-chlorobutyronitrile에 녹이면, 착물 trans-[FeH(NCCH2CH2CH2Cl)(dppe)2]Cl, 2가 생성되고, 2는 NaBF4와 반응하여 착물 trans-[FeH(NCCH2CH2CH2Cl)(dppe)2][BF4], 3로 변환된다. 착물 3의 결정학 자료: 단사정계 공간군 P21/c, a=13.540(2) , b=17.058(3) , c=21.853(4) , β=90.15(1)o, Z=4, R(wR2)=0.0524(0.1239).

• 한국진공학회지
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• 제6권3호
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• pp.282-286
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• 1997

$Cl_2$/ CH_4/H_2$ 혼합기체를 이용한 InP소재의 반응성 이온 에칭(RIE; reactive ion etching)방법에 있어서 기체분율, RF(radio frequency) 전력 및 시료온도를 변화시키면서 에 칭속도, 측벽 수직도, 표면손상 및 오염 등을 관찰하여 적정 에칭조건을 연구하였다. $CH_4$ 유 량 0-12sccm, Cl2 기체 유량을 3-15sccm, RF 전력 100-200W, 시료온도 150-$200^{\circ}C$로 각각 변화시켜 실험한 결과 $Cl_2$ 기체유량 및 RF 전력과 시료온도가 증가함에 따라 에칭속도가 비례하여 증가하였고 RF 전력 150W, 시편온도 $180^{\circ}C$, 10Cl2/5CH4/85H2의 적정 공정조건에 서 $80^{\circ}$정도의 측벽수직도를 갖는 메사와 미려한 에칭표면이 얻어졌으며 평균 에칭속도는 0.9$\pm$0.1$\mu\textrm{m}$/min정도였다. 전자현미경 분석 결과 $CH_4/H_2$혼합기체에 $Cl_2$를 첨가함에 따라 표 면미려도 및 메사측벽 수직도는 다소간 감소하였으나 에칭공정 중 고분자 물질의 생성이 억 제되었다.