We prepared spherical silica particles by controlling various conditions of emulsion-gel procedure using a lab-scale membrane emulsification system equipped with SPG (Shirasu porous glass) membrane having pore size of 2.6 ${\mu}m$. We determined the effects of process parameters of membrane emulsification (dispersed phase pressure, stabilizer and emulsifier concentration in continuous phase, $H_2O$/TEOS ratio, ratio of dispersed phase to continuous phase) on the mean size and size distribution of silica particles. The increase of the dispersed phase pressure and ratio of dispersed phase to continuous phase led to the increase in the mean size of silica particles. On the contrary, the increase in stabilizer and emulsifier concentration and $H_2O$/TEOS ratio caused the reduction of the mean size of particles. Through controlling these parameters, monodisperse spherical silica particles with about 3 ${\mu}m$ of the mean size were finally prepared.
최근 태양전지에 대한 연구가 본격적으로 진행 중인 가운데 Local back contact 태양전지에 대한 연구가 새로운 이슈로 떠오르고 있다. LBC 구조의 태양전지는 후면 passivation에 대한 최적화 공정이 가장 중요하다. 후면 passivation으로 사용되는 물질로는 $SiO_2$, SiNx, $Al_2O_3$ 등의 산화막이 대표적이다. 본 연구에서는 LBC 구조 태양전지의 후면 passivation 박막으로 사용되는 $SiO_2$ 산화막의 공정가변에 따른 박막의 특성을 비교 분석하였다. $SiO_2$ 성장은 RTP를 사용하였다. 성장 온도 $850^{\circ}C$의 온도에서 진행하였으며, 4L/min의 $O_2$분위기에서 진행하였다. 공정 시간 5분 일 때 12.5nm, 15분 일 때 21.7nm의 두께의 박막을 성장 시킬 수 있었다. Carrier lifetime 확인 결과 박막의 두께가 얇을수록 lifetime이 향상함을 확인 할 수 있었고, C-V 측정을 통한 charge 비교를 통해 두께가 얇은 박막 일수록 더 적은 positive charge를 갖고있는 것을 확인 할 수 있었으며 이를 통해 passivation 효과가 우수함을 확인 할 수 있었다.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2010.06a
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pp.195-195
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2010
본 연구에서 제작한 u-bolometer 은 적외선을 흡수하는 멤브레인이 a-Si 위에 Ti 메탈로 이루어져 있다. 이 u-bolometer 는 MEMS 센서로써 3차원 공진 구조를 제작하기 위해서는 희생층을 제거하는 공정이 필수적이며 이 희생 층으로 Polyimide를 사용하고 있는 공정에서 Plasma Ashing 공정은 더욱더 필수적이다. 이 Ashing 공정은 O2 플라즈마를 이용하며 이때 흡수물질인 Ti 레이어가 플라즈마에 의해 면저항과 흡수율의 특성이 어떻게 변화되는지 플라즈마 공정 전후를 분석한 결과 면저항의 변화가 나타났으며 uniformity도 높게 변화하였다. 또한 적외선 흡수율이 약 5% 차이가 나타나는 것을 확인 할 수 있었다.
The present work relates to the recovery of dissolved Mo from spent mandrel dissolving acid solution by injecting ammonia gas. In order to optimize the process parameters for high yield and high purity of recovered Mo products, a bench scale and a pilot scale experiments were carried out. As a result, more than 99.5% of Mo in spent acid was recovered in the form of ammonium molybdate(4MoO$_3$.$2NH_3$.$H_2$O). The purity of Mo products recovered was higher than 99.5%. In addition, the mother liquor, residual solution after precipitation and filtration of ammonium molybdate solid particles, could be utilized as fertilizers.
Titanium oxide films were deposited by the nozzle type HCP RT-MOCVD for the application of metal-oxide films. In the case of TTNB, after depositing films, films must be annealed at a proper temperature, but in the case of titanium ethoxide, titanium oxide films could be directly deposited by titanium ethoxide without general annealing. We could confirm that ratio of O to Ti in the films was about 2 : 1 at RF-power of 240 watt, distance between cathode and substrate of 3 cm, deposition time of 20 min, and ratio of Ar to $O_2$ of 1 : 1. Therefore, we could obtain the titanium oxide film deposited by the nozzle type HCP RT-MOCVD without an annealing process and could apply in the metal-oxide deposition process at a low temperature.
Park, Hyo-Min;Tark, Sung-Ju;Kang, Min-Gu;Park, Sung-Eun;Kim, Dong-Whan
한국신재생에너지학회:학술대회논문집
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2009.06a
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pp.89-89
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2009
높은 소수반송자 수명(life-time)을 가지는 고품위 실리콘 기판은 고효율 실리콘 이종접합 태양전지 제작을 위한 중요 요소 기술 중 하나이다. 본 연구에서는 n-type c-Si 기판을 이용한 고효율 실리콘 이종접합 태양전지제작을 위해 hot water oxidation(HWO) 공정을 이용하여 고품위 실리콘 기판을 제작하였다. 실리콘 기판의 특성 분석은 Qusi-steady state photoconductance (QSSPC)를 이용하여 소수반송자 수명을 측정하였으며, 기판의 면저항 및 wetting angle을 측정하여 공정에 따른 특성변화를 분석하였다. Saw damage etching 된 기판을 웨이퍼 표면으로부터 particle, 금속 불순물, 유기물 등의 오염을 제거하기 위해 $60{\sim}85^{\circ}C$로 가열된 Ammonia수, 과산화수소수($NH_4OH/H_2O_2/H_2O$), 염산 과산화수소수($HCL/H_2O_2/H_2O$) 및 실온 희석불산(DHF) 중에 기판을 각각 10분 정도씩 침적하여, 각각의 약액 처리 후에 매회 10분 정도씩 순수(DI water)에서 rinse하여 RCA 세정을 진행한 후 HWO 공정을 통해 기판 표면에 얇은 산화막 을 형성시켜 패시베이션 해주었다. HF를 이용하여 자연산화막을 제거시 HWO 공정을 거친 기판은 매끄러운 표면과 패시베이션 영향으로 기판의 소수 반송자 수명이 증가하며, 태양전지 제작시 접촉저항을 감소시켜 효율을 증가 시킬수 있다. HWO 공정은 반응조 안의 DI water 온도와 반응 시간에 따라 life-time을 측정하여 진행하였으며, 이후 PE-CVD법으로 증착된 a-Si:H layer 및 투명전도 산화막, 금속전극을 증착하여 실리콘 이종접합 태양전지를 제작하였다.
Bisphenol A (BPA) in aqueous solution was measured using HPLC technique, which was established by acetonitrile analysis and KDP solution analysis methods. In these experiments the decomposition characteristics of BPA were compared using the ozone alone, ozone/pH 10, and ozone/hydrogen peroxide processes. About 70% of 10 mg/L of BPA was removed during 60 min by the ozone alone process, while 10 mg/L of BPA was completely removed by the ozone/pH 10 and ozone/hydrogen peroxide processes in 40 min and 60 min, respectively. The final decomposition efficiency drawn from results of TOC and HPLC analyses showed that the ozone/hydrogen peroxide process was the best among them, whereas the concentrations of TOC and reaction intermediates when using the ozone/pH 10 process were higher than those of the ozone alone process after 60 min of reaction. The ozone/hydrogen peroxide process was the most efficient among them when oxidizing organic carbons in water to $CO_2$ and $H_2O$.
Current iron and steelmaking operation was re-evaluated on the basis of slag engineering technology to optimize slag operations. In blast furnace process, increase in the basicity of slags (C/S) could obtain progressed fluidity and hot metal quality. COREX process would be stabilized in view of slag fluidity and hot metal quality by reducing input content of $SiO_2$and $A1_2$$O_3$In STS-AOD process, addition of small amount of lime could improve refining capacity of the slag; also calcium aluminate flux could be taken into account as a potential substitute for fluorspar, without degradation of operation efficiency and steel quality.
Journal of the Korean institute of surface engineering
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v.54
no.1
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pp.25-29
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2021
The fabrication of nanopore membrane by deposition of Al2O3 film using electron-beam evaporation, which is fast, cost-effective, and negligible dependency on substance material, is investigated for potential applications in water purification and sensors. The decreased nanopore diameter owing to increased wall thickness is observed when Al2O3 film is deposited on anodic aluminum oxide membrane at higher deposition rate, although the evaporation process is generally known to induce a directional film deposition leading to the negligible change of pore diameter and wall thickness. This behavior can be attributed to the collision of evaporated Al2O3 particles by the decreased mean free path at higher deposition rate condition, resulting in the accumulation of Al2O3 materials on both the surface and the edge of the wall. The reduction of nanopore diameter by Al2O3 film deposition can be applied to the nanopore membrane fabrication with sub-100 nm pore diameter.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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