1 |
H. Hara, T. Hanada, T. Shiro, T. Yatabe, J. Vac. Technol. A22, 4, 2004.
|
2 |
P. Nunes, E. Fortunato, P. Tonello, F.Braz Fermandesa, P. Vilarinhob, and R. Martin, Vacuum, 64,281, 2002.
DOI
ScienceOn
|
3 |
M. S. Wang, E. J. Kim, J. S. Chung, E. W. Shin, S. H. Hahn, K. E. Lee, C. H. Park, Phys. Stat. Sol. (a), 203, 2418, 2006.
DOI
ScienceOn
|
4 |
K. H. Kim, K. C. Park, D. Y. Ma, J. Appl. Phys, 81, 7764, 1997.
DOI
ScienceOn
|
5 |
D. H. Kong, W. C. Choi, Y. C. Shin, J. H. Park, T. G. Kim, J. Korean. Phys. Soc, 48, 1214, 2006.
|
6 |
D. M. Bagnall, Y. F. Chen, M. Y. Shen, Z. Zhu, T. Goto, T. Yao, J. Cryst. Growth, 184/185, 605, 1998.
DOI
ScienceOn
|
7 |
Y. Zhang, G. Du, D. Liu, X. Wang, et al., J. Crystal Growth 243, 439, 2002.
DOI
ScienceOn
|
8 |
Y. Igasaki and H. Saito, J. Appl. Phys. 70, 3613, 1991.
DOI
|
9 |
N. Kawasaki, Y. Kubozo, H. Okamoto, A. Fujiwara and M. Yamaji, Appl. Phys. Lett. Vol 94, 043310, 2009.
DOI
ScienceOn
|
10 |
X. Chen, W. Guan, G. Fang, X. Z. Zhao, Appl. Surf. Sci, 252, 1561, 2005.
DOI
ScienceOn
|
11 |
B. E. Semelius, K. F. Berggren, Z. C. Jin, I. Hamberg, C. G. Granqvist, Phys. Rev. B, 37, 10244, 1988.
DOI
ScienceOn
|
12 |
Look, D.C., Hemsky, J.W. and Sizelove, J.R. (1999) Physical Review Letters, 82, 2552.
DOI
ScienceOn
|
13 |
Vanheusden, K., Seager, C.H., Warren, W.L., Tallant, D.R. and Voight, J,A. (1996) Applied Physics Letters, 68, 403
DOI
ScienceOn
|
14 |
A. Kaijou, M. Ohyama, M. Shibata, K. Inoue, U. S.Patent No. 5, 972, 527, 1999.
|
15 |
J. Han, P. Q. Mantas, and A. M. R. Senos, J.EUR. CERAM. SOC. 21, 1338, 2001.
|
16 |
T. Minami, H. Nanto, and S. Takata, Jpn. J. Appl. Phys. 23, 280, 1984.
DOI
ScienceOn
|
17 |
T. Minami, T. Kakumu and S. Takata, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 1704, 1996.
|
18 |
H. M. Kim, S. K. Jeung, J. S. Ahn, Y. J. Kang, C. K. Je, Jpn. J. Appl. Phys. 42, 1, 2003.
DOI
|
19 |
T. Minami, T. Miyata and T. Yamamoto,J. Vac. Sci. Technol. A 17, 1822, 1999.
|
20 |
Y. Zhang, G. Du, B. Liu, J. Cryst. Growth, 262, 456, 2004.
DOI
ScienceOn
|