인포메이션 디스플레이 (Information Display)

한국정보디스플레이학회 (The Korean Infomation Display Society)
권호 표지

디스플레이 공정 플라즈마 진단 기술

  • 염희중 (한국표준과학연구원 전략기술연구소 반도체디스플레이측정그룹) ;
  • 김정형 (한국표준과학연구원 전략기술연구소 반도체디스플레이측정그룹) ;
  • 이효창 (한국항공대학교 항공전자정보공학부)
  • 발행 : 2024.04.30
PDF 다운로드
⟨ 이전 논문 다음 논문 ⟩

초록

키워드

참고문헌

  1. L. Tonks and I. Langmuir, Phys. Rev. 34 876-922 (1929)  https://doi.org/10.1103/PhysRev.34.876
  2. M. A. Lieberman and A. J. Lichtenberg, Principles of Plasma Discharges and Materials Processing (John Wiley & Sons, Inc.,Hoboken, NJ, 2005. 
  3. V. M. Donnelly and A. Kornblit, J. Vac. Sci. Technol. A Vacuum, Surfaces, Film. 31 050825 (2013) 
  4. C. G. Lee, K. J. Kanarik and R. A. Gottscho, J. Phys. D. Appl. Phys. 47 (2014) 
  5. H. C. Lee, Appl. Phys. Rev. 5 (2018) 
  6. H. F. Winters, J. W. Coburn and E. Kay J. Appl. Phys. 48 (1977) 
  7. J. Braithwaite and R. N. Franklin, Plasma Sources Sci. Technol. 18 (2009) 
  8. J. H. Kim, S. C. Choi, Y. H. Shin and K. H. Chung, Rev. Sci. Instrum. 75 2706-10 (2004)  https://doi.org/10.1063/1.1771487
  9. M. M. Morshed and S. M. Daniels, Plasma Sci. Technol. 14 316-20 (2012)  https://doi.org/10.1088/1009-0630/14/4/09
  10. J. Jang, S. Park and J. Y. Park, Plasma Sources Sci. Technol. 27, 10LT01 (2018) 
  11. K. B. Chai and D. C. Kwon J. Quant. Spectrosc. Radiat. Transf. 227 136-44 (2019)  https://doi.org/10.1016/j.jqsrt.2019.02.015
  12. J. B. Boffard, R. O. Jung, C. C. Lin and A. E. Wendt, Plasma Sources Sci. Technol. 19 (2010) 
  13. S. J. Oh, D. Y. Sung, J. M. Ko andS. K. Nam J. Vac. Sci. Technol. B 40 052206 (2022) 
  14. M. H. Lee, S. H. Jang and C. W. Chung, J. Appl. Phys. 101 033305 (2007) 
  15. J. H. Kim, D. J. Seong, J. Y. Lim and K. H. Chung, Appl. Phys. Lett. 83 4725-7 (2003)  https://doi.org/10.1063/1.1632026
  16. J. H. Kim, K. H. Chung and Y. H. Shin Metrologia42 110-4 (2005) 
  17. J. H. Kim, S. J. You, D. J. Seong and Y. H. Shin, Appl. Phys. Lett. 91 201502 (2007) 
  18. D. W. Kim, S. J. You, J. H. Kim, H. Y. Chang and W. Y. Oh Phys. Plasmas 21 (2014) 
  19. K. H. You, S. J. You, D. W. Kim, B. K. Na, B. H. Seo, J. H. Kim and H. Y. Chang, Phys. Plasmas 23 (2016) 
  20. D. W. Kim, S. J. You, S. J. Kim, J. H. Kim, W. S. Kang and M. Hur, Plasma Sources Sci. Technol. 28 015004 (2019) 
  21. H. J. Yeom, J. H. Kim, D. H. Choi, E. S. Choi, M. Y. Yoon, D. J. Seong, S. J. You and H. C. Lee, Plasma Sources Sci. Technol. 29 035016 (2020) 
  22. Y. C. Kim, S. H. Jang, S. J. Oh, H. C. Lee andC. W. Chung, Rev. Sci. Instrum. 84 1 -8 (2013)  https://doi.org/10.1063/1.4802673
  23. I. Liang, K. Nakamura and H. Sugai, Appl. Phys. Express 4 4-7 (2011)  https://doi.org/10.1143/APEX.4.066101
  24. C. Schulz, T. Styrnoll, P. Awakowicz and I. Rolfes, IEEE Trans. Instrum. Meas. 64 857 - 64 (2015) https://doi.org/10.1109/TIM.2014.2358111
  25. H. J. Yeom, M. Y. Yoon, G. S. Chae, J. H. Kim, S. J. You and H. C. Lee, Appl. Phys. Lett. 122 114103 (2023) 
  26. H. J. Yeom, G. S. Chae, J. H. Kim, S. J. You andH. C. Lee, J. Appl. Phys. 133 153302 (2023)