탑-다운 공정기반의 마이크로/나노LED제작 및 고해상도 디스플레이 응용

References

1. C. Fry, B. Racine, D. Vaufrey, H. Doyeux, and S. Cin, Appl. Phys. Lett. 87, 1 (2005).
2. Y. Huang, E. L. Hsiang, M. Y. Deng, and S. T. Wu, Light Sci. Appl. 9, (2020).
3. H. S. Wasisto, J. D. Prades, J. Gulink, and A. Waag, Appl. Phys. Rev. 6, (2019).
4. T. Wu, C. W. Sher, Y. Lin, C. F. Lee, S. Liang, Y. Lu, S. W. H. Chen, W. Guo, H. C. Kuo, and Z. Chen, Appl. Sci. 8, (2018).
5. Z. Chen, S. Yan, and C. Danesh, J. Phys. D. Appl. Phys. 54, (2021).
6. Y. H. Ko, J. H. Kim, S. H. Gong, J. Kim, T. Kim, and Y. H. Cho, ACS Photonics 2, 515 (2015).
7. M. Asad, R. Wang, Y. H. Ra, P. Gavirneni, Z. Mi, and W. S. Wong, npj Flex. Electron. 3, 1 (2019).
8. B. O. Jung, S. Y. Bae, S. Y. Kim, S. Lee, J. Y. Lee, D. S. Lee, Y. Kato, Y. Honda, and H. Amano, Nano Energy 11, 294 (2015).
9. Y. H. Ra, R. Wang, S. Y. Woo, M. Djavid, S. M. Sadaf, J. Lee, G. A. Botton, and Z. Mi, Nano Lett. 16, 4608 (2016).
10. M. A. V. E. Izo, and K. A. O. Hkawa, Photonics Res. 9, 1796 (2021).
11. E. Quesnel, A. Lagrange, M. Vigier, M. Consonni, M. Tournaire, V. Le, A. Suhm, P. Demars, B. Ben, B. Nicolas, O. Eric, F. Jean, M. Lamy, M. D. Amico, E. Cao, P. Coni, L. Charrier, 2020, 1.
12. D. M. Geum, S. K. Kim, C. M. Kang, S. H. Moon, J. Kyhm, J. Han, D. S. Lee, and S. Kim, Nanoscale 11, 23139 (2019).
13. H. K. Park, S. W. Yoon, Y. J. Eo, W. W. Chung, G. Y. Yoo, J. H. Oh, K. N. Lee, W. Kim, and Y. R. Do, Sci. Rep. 6 (2016).
14. H. Park, K. H. Baik, J. Kim, F. Ren, and S. J. Pearton, Opt. Express 21, 12908 (2013).
15. H. Park, B.-J. Kim, and J. Kim, Opt. Express 20, 25249 (2012).
16. Q. Li, K. R. Westlake, M. H. Crawford, S. R. Lee, D. D. Koleske, J. J. Figiel, K. C. Cross, S. Fathololoumi, Z. Mi, and G. T. Wang, Opt. Express 19, 25528 (2011).
17. W. H. Choi, G. You, M. Abraham, S. Y. Yu, J. Liu, L. Wang, J. Xu, and S. E. Mohney, J. Appl. Phys. 116 (2014).
18. S. W. Wang, K. Bin Hong, Y. L. Tsai, C. H. Teng, A. J. Tzou, Y. C. Chu, P. T. Lee, P. C. Ku, C. C. Lin, and H. C. Kuo, Sci. Rep. 7, 1 (2017).
19. K. Wang, P. Chen, J. Chen, Y. Liu, C. Wu, J. Sun, X. Zhou, Y. Zhang, and T. Guo, Opt. Laser Technol. 140, 107044 (2021).
20. N. Yulianto, A. D. Refino, A. Syring, N. Majid, S. Mariana, P. Schnell, R. A. Wahyuono, K. Triyana, F. Meierhofer, W. Daum, F. F. Abdi, T. Voss, H. S. Wasisto, and A. Waag, Microsystems Nanoeng. 7 (2021).
21. S. S. Pasayat, R. Ley, C. Gupta, M. S. Wong, C. Lynsky, Y. Wang, M. J. Gordon, S. Nakamura, S. P. Denbaars, S. Keller, and U. K. Mishra, Appl. Phys. Lett. 117 (2020).
22. S.-Y. Bae, D.-J. Kong, J.-Y. Lee, D.-J. Seo, and D.-S. Lee, Opt. Express 21, 16854 (2013).
23. M. S. Wong, D. Hwang, A. I. Alhassan, C. Lee, R. Ley, S. Nakamura, S. P. DenBaars, Opt. Express 26, 21324 (2018).
24. Q. Wang, J. Bai, Y. P. Gong, and T. Wang, J. Phys. D. Appl. Phys. 44 (2011).
25. J. Zhu, T. Takahashi, D. Ohori, K. Endo, S. Samukawa, M. Shimizu, and X. L. Wang, Phys. Status Solidi Appl. Mater. Sci. 216, 1 (2019).
26. J. Park, J. H. Choi, K. Kong, J. H. Han, J. H. Park, N. Kim, E. Lee, D. Kim, J. Kim, D. Chung, S. Jun, M. Kim, E. Yoon, J. Shin, and S. Hwang, Nat. Photonics (2021).
27. D. Hwang, A. Mughal, C. D. Pynn, S. Nakamura, and S. P. DenBaars, Appl. Phys. Express 10 (2017).
28. K. R. Son, V. Murugadoss, K. H. Kim, T. G. Kim, Appl. Surf. Sci. 584, 152612 (2022).
29. S. C. Huang, H. Li, Z. H. Zhang, H. Chen, S. C. Wang, and T. C. Lu, Appl. Phys. Lett., 110 (2017).
30. J. Kim, Y. Tak, J. Kim, S. Chae, J.-Y. Kim, and Y. Park, J. Appl. Phys. 114, 013101 (2013).
31. F. Olivier, A. Daami, C. Licitra, and F. Templier, Appl. Phys. Lett. 111 (2017).
32. S. S. Konoplev, K. A. Bulashevich, and S. Y. Karpov, Phys. Status Solidi Appl. Mater. Sci. 215, 1 (2018).
33. E.-L. Hsiang, Z. He, Z. Yang, Y.-F. Lan, and S.-T. Wu, Opt. Express 29, 39859 (2021).
34. Z. T. Ye, W. T. Ho, and C. H. Chen, Nanoscale Res. Lett. 16, 1 (2021).