E2M - 전기 전자와 첨단 소재 (Electrical & Electronic Materials)

  • 제35권1호
  • /
  • Pages.16-26
  • /
  • 2022
  • /
  • 2982-6268(pISSN)
  • /
  • 2982-6306(eISSN)
한국전기전자재료학회 (The Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers)
권호 표지

3-5족 질화물 나노로드 소재 및 이를 이용한 광원/디스플레이 연구 동향

  • 유강열 (한국전자기술연구원 디스플레이연구센터) ;
  • 조현민 (한국전자기술연구원 디스플레이연구센터)
  • 발행 : 2022.02.01
PDF 다운로드
⟨ 이전 논문 다음 논문 ⟩

초록

키워드

참고문헌

  1. H. X. Jiang, S. X. Jin, J. Li, J. Shakya, and J. Y. Lin, Appl. Phys. Lett., 78, 1303 (2001). https://doi.org/10.1063/1.1351521
  2. C. Y. Wang, L. Y. Chen, C. P. Chen, Y. W. Cheng, M. Y. Ke, M. Y. Hsieh, H. M. Wu, L. H. Peng, and J. J. Huang, Opt. Express, 16, 10549 (2008). https://doi.org/10.1364/OE.16.010549
  3. R. Koester, J. S. Hwang, D. Salomon, X. Chen, C. Bougerol, J. P. Barnes, D. L. S. Dang, L. Rigutti, A. de Luna Bugallo, G. Jacopin, M. Tchernycheva, C. Durand, and J. Eymery, Nano Lett., 11, 4839 (2011). https://doi.org/10.1021/nl202686n
  4. B. O. Jung, S. Y. Bae, S. Y. Kim, S. Lee, J. Y. Lee, D. S. Lee, Y. Kato, Y. Honda, and H. Amano, Nano Energy, 11, 294 (2015). https://doi.org/10.1016/j.nanoen.2014.11.003
  5. Y. H. Ra, R. Navamathavan, J. H. Park, and C. R. Lee, Nano Lett., 14, 1537 (2014). https://doi.org/10.1021/nl404794v
  6. M. Tchernycheva, V. Neplokh, H. Zhang, P. Lavenus, L. Rigutti, F. Bayle, F. H. Julien, A. Babichev, G. Jacopin, L. Largeau, R. Ciechonski, G. Vescovi, and O. Kryliouk, Nanoscale, 7, 11692 (2015). https://doi.org/10.1039/c5nr00623f
  7. H. S. Yang, S. Y. Han, K. H. Baik, and S. J. Pearton, Appl. Phys. Lett. 86, 102104 (2005). https://doi.org/10.1063/1.1882749
  8. Q. Li, K. R. Westlake, M. H. Crawford, S. R. Lee, D. D. Koleske, J. Figiel, K. C. Cross, S. Fathololoumi, Z. Mi, and G. T. Wang, Opt. Express, 19, 25528 (2011). https://doi.org/10.1364/OE.19.025528
  9. Q. Li, J. B. Wright, W. W. Chow, T. S. Luk, I. Brener, L. F. Lester, and G. T. Wang, Opt. Express, 20, 17873 (2012). https://doi.org/10.1364/OE.20.017873
  10. S. Y. Bae, D. J. Kong, J. Y. Lee, D. J. Seo, and D. S. Lee, Opt. Express, 21, 16854 (2013). https://doi.org/10.1364/OE.21.016854
  11. C. Li, J. B. Wright, S. Liu, P. Lu, J. J. Figiel, B. Leung, W. W. Chow, I. Brener, D. D. Koleske, and T. S. Luk, Nano Lett. 17, 1049 (2017). https://doi.org/10.1021/acs.nanolett.6b04483
  12. S. Fernandez-Garrido, T. Auzelle, J. Lahnemann, K. Wimmer, A. Tahraouia, and O. Brandt, Nanoscale Adv. 1, 1893 (2019). https://doi.org/10.1039/c8na00369f
  13. Y. H. Ra and C. R. Lee, Nano Lett., 20, 4162 (2020). https://doi.org/10.1021/acs.nanolett.0c00420
  14. M. Nami, I. E. Stricklin, K. M. DaVico, S. Mishkat-Ul-Masabih, A. K. Rishinaramangalam, S. R. J. Brueck, I. Brener, and D. F. Feezell, Sci. Rep. 8, 1, (2018).
  15. Z. Bi, F. Lenrick, J. Colvin, A. Gustafsson, O. Hultin, A. Nowzari, T. Lu, R. Wallenberg, R. Timm, A. Mikkelsen, B. J. Ohlsson, K. Storm, B. Monemar, and L. Samuelson, Nano Lett., 19, 2832 (2019). https://doi.org/10.1021/acs.nanolett.8b04781
  16. H. Park, B. J. Kim, and J. Kim Opt. Express, 20, 25249 (2012). https://doi.org/10.1364/OE.20.025249
  17. M. C. Chou, C. Y. Lin, B. L. Lin, C. H. Wang, S. H. Chang, W. C. Lai, K. Y. Lai, and Y. C. Chang, ACS Nano, 12, 8748 (2018). https://doi.org/10.1021/acsnano.8b04933
  18. X. Dai, A. Messanvi, H. Zhang, C. Durand, J. Eymery, C. Bougerol, F. H. Julien, and M. Tchernycheva, Nano Lett. 15, 6958 (2015). https://doi.org/10.1021/acs.nanolett.5b02900
  19. M. Asad, R. Wang, Y. H. Ra, P. Gavirneni, Z. Mi, and W. S. Wong npj Flexible Electron., 3, 1 (2019). https://doi.org/10.1038/s41528-018-0045-x
  20. Y. H. Ra and C. R. Lee, Nano Energy, 84, 1 (2021).
  21. P. Gilet and I. C. Robin, SID Symp. Dig. Pap. 49. 684 (2018).
  22. H. K. Park, S. W. Yoon, Y. J. Eo, W. W. Chung, G. Y. Yoo, J. H. Oh, K. N. Lee, W. Kim, and Y. R. Do, Sci. Rep. 6, 1 (2016). https://doi.org/10.1038/s41598-016-0001-8