References
- Y. R. Ryu, T. S. Lee, J. H. Lee, and H. W. White, Appl. Phy. Lett. 83, 4032 (2003). https://doi.org/10.1063/1.1625787
- J. Y. Lee, Y. S. Choi, J. H. Kim, M. O. Park, and S. Im, Thin Solid Films 403/404, 553 (2002). https://doi.org/10.1016/S0040-6090(01)01550-4
- N. Saito, H. Haneda, T. Sekiguchi, N. Ohashi, I. Sakaguchi, and K. Koumoto, Adv. Mater. 14, 418 (2002). https://doi.org/10.1002/1521-4095(20020318)14:6<418::AID-ADMA418>3.0.CO;2-K
- A. B. M. A. Ashrafi, A. Ueta, A. Avramescu, H. Kumano, and I. Suemune, Appl. Phys. Lett. 88, 550 (2000).
- Y. Y. Kim, C. H. An, H. K. Cho, J. H. Kim, H. S. Lee, E. S. Jung, and H. S. Kim, Thin Solid Films 516, 5602 (2008). https://doi.org/10.1016/j.tsf.2007.07.108
- J. L. Tian, H. Y. Zhang, G. G. Wang, X. Z. Wang, R. Sun, L. Jin, and J. C. Han, Superlattices and Microstructures 83, 719 (2015). https://doi.org/10.1016/j.spmi.2015.03.062
- S. Yamaguchi, M. Kariya, M. Kosaki, Y. Yukawa, S. Nitta, H. Amano, and I. Akasaki, J. Appl. Phy. 89, 7820 (2001). https://doi.org/10.1063/1.1371278
- B. D. Cullity, Elements of X-ray Diffraction, Addison-Wesley, 1978, 102.
- A. V. Dijken, E. A. Meulenkamp, D. Vanmaekelbergh, and A. Meijerink, J. Lumin. 90, 123 (2000). https://doi.org/10.1016/S0022-2313(99)00599-2
- X. C. Wang, W. B. Mi, S. Dong, X. M. Chen, and B. H. Yang, J. Alloy. Compd. 478, 507 (2009). https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2008.11.075
- Y. Zhang, L. Wu, H. Li, J. Xu, L. Han, B. Wang, Z. Tuo, and E. Xie, J. Alloy. Compd. 473, 319 (2009). https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2008.05.090
- E. De la Rosa, S. S. Guzman, B. R. Jayan, A. Torres, P. Salas, N. Elizondo, and M. J. Yacaman, J. Phys. Chem. C 111, 8489 (2007). https://doi.org/10.1021/jp071846t
- V. I. Nefedov, M. N. Firsov, and I. S. Shaplygin, J. Electron. Spectrosc. Relat. Phenom. 26, 65 (1982). https://doi.org/10.1016/0368-2048(82)87006-0