DOI QR코드

DOI QR Code

반도체/디스플레이 공정급 건식진공펌프 개발 개요

Development of Dry-Vacuum-Pump for Semiconductor/Display Process

  • 투고 : 2010.05.11
  • 심사 : 2010.06.23
  • 발행 : 2010.07.30

초록

반도체소자 및 디스플레이 제조공정의 핵심 환경인 진공을 형성 유지하기 위한 건식진공펌프는 높은 성능과 신뢰성을 필요로 한다. 건식진공펌프의 개발을 위해서는 다양한 고려와 세밀한 기술적 검토가 필요하다. 본고에서는 반도체 및 디스플레이 제조 공정용 건식진공펌프 개발 과정을 단계별로 소개하고 향후 기술발전 방향에 대해 소개하고자 한다.

The excellent performance and stability of dry-vacuum-pump is essential to create and maintain high quality vacuum condition in semiconductor and display process. The development of dry-vacuum-pump needs systematic consideration for target application as well as delicate mechanical issues. Here, we introduce a development procedures of dry-vacuum-pump for semiconductor-process-class.

키워드

참고문헌

  1. 배석희, 인상렬, 정광화, 이영백, 신용현, 진공공학 (한국경제신문, 서울, 2004), pp.153-157.
  2. 김홍배, 손상희, 진공의 기초 (전자재료사, 서울, 2002), pp. 29-34.
  3. Philip A. Lessard, J. Vac. Sci. Technol. A 18, 1888 (2000).
  4. 김병옥, 이안성, 노명근, 유체기계저널 10, 47 (2007).
  5. 김병옥, 이안성, 노명근, 한국소음진동공학회 논문집 10, 967 (2007).
  6. 노명근, 황태경, 박제우, 한국진공학회지 17, 292 (2008).
  7. 주장헌, 김효배, 김중조, 한국진공학회지 17, 278 (2008).

피인용 문헌

  1. Coupled flow-structure Analyses on the Roots Type Vacuum Pumps in Semiconductor Fabrication Facility vol.16, pp.2, 2013, https://doi.org/10.5293/kfma.2013.16.2.010
  2. Study on Vacuum Pump Monitoring Using Adaptive Parameter Model vol.20, pp.3, 2011, https://doi.org/10.5757/JKVS.2011.20.3.165
  3. Analysis on the Flow and the Byproduct Particle Trajectory of Roots Type Vacuum Pump vol.14, pp.5, 2011, https://doi.org/10.5293/kfma..2011.14.5.018