References
- K. C. Choi, B. J. Baek, H. S. Tae, H. D. Park, IEEE Trans. Electron Dev., Vol.50, No.6, p.1440, 2003 https://doi.org/10.1109/TED.2003.813337
- J.P. Boeuf, J. Phys. D, Appl. Phys., Vol. 36, No. 6, pR53, 2003
- D. Hayashi, G. Heusler, G. Hagelaar, and G. Kroesen, J. Appl. Phys., Vol.95, No.4, p.1656, 2004 https://doi.org/10.1063/1.1641961
- G. Oversluizen, M. Klein, S. de Zwart, S. van Heusden, and T. Dekker, J. Appl. Phys., Vol.91, No.4, p.2403, 2002 https://doi.org/10.1063/1.1430896
- L. F. Weber, Int. Display Research Conf., 23, p. 119, 2003
- K. C. Choi, N. H Shin, K. S. Lee, B. J. Shin, S. E. Lee, IEEE. Trans. Plasma Sci., Vol. 34, No. 2, p. 403, 2006 https://doi.org/10.1109/TPS.2006.872448
- H. S. Bae, J. K. Kim, and K. W. Whang, IEEE Trans. Plasma Sci., Vol. 35, No. 2, p. 467, 2007 https://doi.org/10.1109/TPS.2007.892738
- J. T. Ouyang, Th. Callegari, B. Caillier, and J. P. Boeuf, J. Phys. D: Appl. Phys. 36, p. 1959, 2003 https://doi.org/10.1088/0022-3727/36/16/307
- K. Tachibana S. Kawai, H. Asai, N. Kikuchi, and S. Sakamoto, J. Phys. D: Appl. Phys. 38, p. 1739, 2005 https://doi.org/10.1088/0022-3727/38/11/015
- H. Y. Jung, T. J. Kim, K. W. Whang, IMID/IDMC, Digest, p. 480-484, 2006
- K. C. Choi, N. H. Shin, S. C. Song, J. H. Lee, and S. D. Park, IEEE Trans. Electron Dev., Vol. 54, No. 2, p.210, 2007 https://doi.org/10.1109/TED.2006.888631
- K. C. Choi, B.-J. Rhee, H.-N. Lee, IEEE Trans. Plasma Sci., Vol.31, No. 3, p. 329, 2003 https://doi.org/10.1109/TPS.2003.811639
- S. H. Kim, J. H. Mun, K. C. Choi, IEEE Trans. Plasma Sci., Vol. 35, No. 3, p. 650, 2007 https://doi.org/10.1109/TPS.2007.895225
- K. H. Cho, S.-M. Lee, K. C. Choi, IEEE Trans. Plasma Sci., Vol. 35, No. 5, p. 1567, 2007 https://doi.org/10.1109/TPS.2007.905207
- S.-M. Lee, K. H. Cho, K. C. Choi, IMID, Digest, p. 119. 2007