Abstract
Uranium dioxide was dissolved with nitric acid and a trace amount of HF. The analytical conditions of a spectrophotometer were investigated to determine a trace amount of silicon in the uranium matrices without a separation process. The effects of a trace amount of HF on the determination of silicon were examined. Boric acid was used to eliminate HF the interference in the colorimetric process. The recovery of silicon in the presence of a trace amount of HF in uranium solutions with or without saturated boric acid was $103.3{\pm}0.8$ and $76.6{\pm}6.8%$, respectively. The amount of saturated boric acid did not affect the recovery of the silicon. Therefore it was possible for this procedure to measure a trace amount of silicon in a uranium matrix without a separation by a UV-VIS spectrophotometry.
이산화우라늄을 질산 및 미량의 불산으로 녹인 다음 우라늄 매트릭스로부터 규소를 분리하지 않고 분광광도계(spectrophotometer)로 측정할 수 있는 분석조건을 검토하였다. 분광광도계로 미량의 규소를 측정할 때 미량의 불산이 규소 분석에 미치는 영향을 조사하였으며, 불산의 간섭을 방지하기 위하여 붕산을 사용하였다. 우라늄 용액에서 미량의 불산이 존재할 경우 포화붕산 사용 유무에 따른 규소의 회수율은 각각 $103.3{\pm}0.8$ 및 $76.6{\pm}6.8%$이었다. 포화붕산의 양은 규소의 회수율에 크게 영향을 미치지 않았다. 따라서 본 방법으로 이산화우라늄 분말 중의 불순물로 존재하는 미량의 규소를 분리 과정없이 바로 UV-VIS 분광광도법으로 정량할 수 있었다.
