Controller for Gas Leakage Protection in Semiconductor Process Chamber

반도체 제조장비용 챔버 가스누출 방지를 위한 제어모듈 개발

In this paper the gas leakage controller in processing chamber for semiconductor manufacturing is proposed. A pressure sensor is connected between the final valve and the numeric valve. A pressure sensor signal and a numeric valve signal are controlled by a proposed digital circuit module. Gas leakage condition, producing by 2nd plasticity in semiconductor process, display at LED. The proposed controller module is useful for monitoring the gas flow for preventing the critical process gas leakage.

본 논문에서는 반도체 제조장비의 챔버 내부 가스누출을 방지하기위한 보완모듈을 제시하였다. MFC(mass flow controller) 다음단의 최종밸브와 챔버 사이의 가스관에 압력센서를 부착시켜, 압력센서의 신호와 최종밸브의 동작신호를 디지털 회로를 이용하여 실시간으로 감지하고 가스누출을 방지하도록 하였다. LED 모듈을 이용하여 공정중에 발생하는 2차 소성물로 인한 가스의 흐름과 관련된 시스템 고장을 표시한다. 본 연구에서 개발한 모듈을 이용하면 챔버 내에서의 가스누출로 인한 장비의 손상과 안전사고 등을 예방하는 효과가 있다.