Journal of the Microelectronics and Packaging Society (마이크로전자및패키징학회지)

The Korean Microelectronics and Packaging Society (한국마이크로전자및패키징학회)
권호 표지

Fabrication of Nanostructured Films of Block Copolymers for Nanolithographical Masks

나노리소그래피 마스크용 블록공중합체 나노구조 필름의 제조

  • Park Dae-Ho (Department of Materials Science and Engineering, Pohang University of Science and Technology) ;
  • Sohn Byeong-Hyeok (Department of Chemistry, Seoul National University) ;
  • Jung Jin Chul (Department of Materials Science and Engineering, Pohang University of Science and Technology) ;
  • Zin Wang-Cheol (Department of Materials Science and Engineering, Pohang University of Science and Technology)
  • 박대호 (포항공과대학교 신소재공학과) ;
  • 손병혁 (서울대학교 화학부) ;
  • 정진철 (포항공과대학교 신소재공학과) ;
  • 진왕철 (포항공과대학교 신소재공학과)
  • Published : 2005.06.01
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Abstract

We fabricated thin films of polystyrene-block-poly(methyl methacrylate)(PS -b-PMMA) on the self-assembled monolayers(SAM) of 3-(p-methoxyphenyl)propyltrichlorosilane(MPTS) on silicon wafers. Cylindrical nanodomains of PMMA or PS were oriented perpendicular to the surface of silicon wafers due to the neutral affinity of the SAM to PS and PMMA blocks. By selective removal of the PMMA block with UV irradiation and washing, nanoporous films and nanorod assemblies were produced. The nanoporous film can be used for a nanolithographical mask.

Polystyrene(PS)과 poly(methyl methacrylate)(PMMA)에 대하여 동일한 계면 특성을 갖는 3-(p-methoxyphenyl)propyltrichlorosilane(MPTS)의 자기조립 단분자막(self-assembled monolayer, SAM) 을 실리콘 웨이퍼 표면에 형성시켜 표면 특성을 개질하였다. 개질된 실리콘 웨이퍼에 PMMA 또는 PS가 원통형 나노구조를 형성하는 PS-b-PMMA 블록공중합체 박막을 코팅하여 원통형 나노구조가 실리콘 웨이퍼 표면에 대하여 수직 배향된 박막을 제조하였다. 수직 원통형 나노구조를 갖는 박막에 자외선 조사와 세척을 통하여 PMMA 블록을 선택적으로 제거하여 수직 나노기공 필름과 수직 나노막대 배열을 제조하였다. 제조된 나노기공 필름은 나노리소그래피 마스크로 사용이 가능하다.

Keywords