Fabrication of micro structure mold using SLS Rapid Prototyping

SLS형 쾌속조형기를 이용한 미세구조 몰드 제작

By this time, a mold with nano size pattern was produced using a fabrication of X-ray lithography method and in a m icro size's case it was produced using fabrication of Deep UV lithography. In this paper, we produced mold with 400 $\mu{m}$depth pattern using a new technology of SLS(Selective Laser Sintering) Rapid Prototyping method. In addition to enhance strength and thermal stability, we produced Ni structure with a thickness of 300 $\mu{m}$ on a surface of mold using electro forming method.

Nano size 몰드의 제작은 X-ray lithography 방법을 이용하여 몰드를 제작하고, micro size의 경우 Deep UV lithography 방법을 이용하여 몰드를 제작하고 있다. 본 연구에서는 SLS(Selective Laser Sintering)형 RP(Rapid Prototyping System)을 이용하여 미세구조 몰드를 제작하였으며, 패턴의 깊이는 400 ㎛까지 구현하였다. 제작된 몰드의 강도와 내열성을 높이기 위하여 전해도금을 이용하여 몰드의 표면에 Ni를 300 ㎛생성 시켰다.