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한국고분자학회
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한국고분자학회지:고분자과학과기술
(Polymer Science and Technology)
제14권1호
/
Pages.39-47
/
2003
/
1225-0260(pISSN)
/
2586-1476(eISSN)
한국고분자학회 (The Polymer Society of Korea)
반도체 초미세 공정호와 F
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(157 nm) 포토레지스트용 고분자의 개발 동향
김재현
((주)동진쎄미켐 전자재료사업부 사업3부) ;
김덕배
((주)동진쎄미켐 전자재료사업부 사업3부)
발행 : 2003.02.01
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