Polymer Science and Technology (한국고분자학회지:고분자과학과기술)

The Polymer Society of Korea (한국고분자학회)
권호 표지

반도체 초미세 공정호와 F$_2$(157 nm) 포토레지스트용 고분자의 개발 동향

  • 김재현 ((주)동진쎄미켐 전자재료사업부 사업3부) ;
  • 김덕배 ((주)동진쎄미켐 전자재료사업부 사업3부)
  • Published : 2003.02.01
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