Optical reflectance of TiO₂/SiO₂ multilayer coating flat mirrors

TiO₂/SiO₂ 다층 박막 평판 mirror의 광학적 반사

Thirty three layer $TiO_2/SiO_2$ coating mirrors with high reflectance through a 620~820nm wavelength range have been designed and fabricated by electron beam evaporation method. Multilayer films were deposited on glass(BK7) and sequentially. The high reflector design is based on alternating high and low refractive index layers. $n_H$ and $n_L$ such that a "stopband"(or area of high reflectivity) is created that is centered around the design wavelength. ${\lambda}_0$. The measured transmittance spectrum with an incident wavelength at an incident angle of $40^{\circ}{\pm}7^{\circ}$ exhibited a reflectance of 99.9% at the wavelength of 620~820nm but high peak transmittance in the wavelength region from 700 to 740nm.

파장범위 620~820nm에서 반사가 큰 $TiO_2/SiO_2$ 33층 박박 mirror를 설계하고 전자 빔 증착 방법으로 제작하였다. 다층박막은 BK7 유리 기판에 연속적으로 증착하였다. 고반사박막 설계는 중심파장 ${\lambda}_0$ 주변에 stopband가 만들어지는 것과 같은, 고굴절률을 가지는 층($n_H$)과 저굴절률을 가지는 층($n_L$)을 반복해서 하였다. 입사각 $40^{\circ}{\pm}7^{\circ}$인 투과도 측정 스펙트럼에서 전체적으로 파장범위 620~820nm에서 99.9%의 반사를 보였다. 파장이 700~740nm에서 투과도가 큰 피크를 보였다.