전자공학회지 (The Magazine of the IEIE)

대한전자공학회 (The Institute of Electronics and Information Engineers)
권호 표지

MMIC 공정 기술

  • 이성대 (동국대학교 밀리미터파 신기술연구센터(MINT))
  • 발행 : 2002.02.01
PDF 다운로드
⟨ 이전 논문 다음 논문 ⟩

초록

키워드

참고문헌

  1. 1992년도 대한전자공학회 추계종합학술대회 논문집 v.15 no.2 Image Reversal 공정을 이용한 sub-micron 게이트의 제작 이일형;김상명;윤관기;신석현;이진구
  2. IEEE Electron Device Letters v.22 no.8 Ultra-short 25-nm-gate lattice-matched InAIAs/InGaAs HEMTs within the range of 400 GHz cutoff frequency Yamashita Y.(et. al.)
  3. IEEE transactions on Electron Devices v.46 no.2 Extremely Low-Noise Performance of GaAsMESFET's with Wide-Head T-Shaped Gate Kiyaomisu Onodera
  4. Rapid Thermal Annealing, Chemical Vapor Deposition and Integrated Processing David Hodul
  5. 동국대학교 박사학위 논문 PM-HEMT를 이용한 MIMIC 전력증폭기의 설계 및 제작에 관한 연구 이일형
  6. 2000 Asia-Pacific Workshop on Funda-mental and Application Advanced Semiconductor Devices Effects of He gas on hydrogen content and passivation of GaAs PHEMT with SiN film J. W. shin;Y. S. Yoon;S. D. Lee;H. C. Park;J. K. Rhee
  7. Modern GaAs Processing Methodes Ralph Williams
  8. 대한전자공학회논문지 A편 v.33 no.12 열적 증착법을 이용한 Air-Bridge 제작과 그 응용에 관한 연구 이일형;김성수;윤관기;김상명;이진구
  9. Journal of Vacuum Science B v.15 no.3 High rate reactive ion etch and electron cyclotron resonance etching of GaAs via holes using thick polyimide and photoresist masks R. J. Shul;M. L. Lovejoy;J. C. Word;A. J. Howard;D. J. Rieger;S. H. Kravitz