광산화(Photooxidation)에 의한 고체 상 표면 잔류농약제거에 관한 연구

A Study of Residual Pesticide Removals on the Surface of Solid Phase Using Photooxidation Process

발암성 물질 내지는 내분비계장애물질로 인식되고 있는 농약에 대한 관심이 날로 증가함에 따라 잔류농약제거에 관한 연구의 중요성이 증대되고 있다. 본 연구에서는 과산화수소가 첨가된 광산화공정을 이용한 고체상의 표면에 잔류하는 농약의 분해에 관한 실험을 수행하였다. 카바메이트계인 베노밀과 유기염소계인 클로로타로닐을 대상으로 실험을 한 결과 파장은 350nm에서, 과산화수소의 공급은 20%에서 최적처리효율을 나타냈으며 과산화수소 또는 UV 조사를 단독적으로 적용하였을 때 그 제거효과는 미미하였으나 UV와 과산화수소를 병행하여 처리하였을 때 처리효율은 가속화되었다. 최적조건에서 20분간 반응하였을 때 고체상 표면에 잔류하는 베노밀은 약 $2{\mu}g/cm^2$이 제거되었으며, 클로로타로닐은 약$1.88{\mu}g/cm^2$이 제거되었다.

As well as arising the concern about pesticides known as a Carcinogenic or endocrine disorder substrates, magnitude was increased of reducing pesticides in soil or water. In this work, removals of residual pesticides on surface of solid phase were attempted by the photooxidation process with hydrogen peroxide. The optimum conditions for the removals of benomyl (carbamatic pesticide) chlorothalonil (Organochoric pesticide) were 350nm UV wavelegth and 20% (v/v) hydrogen peroxide solution as oxidant. Removals are negligible when UV radiation or the supply of hydrogen peroxide are solely applied on the target compoounds. Removal rates of the pesticides are accelerated by UV radiation with hydrogen addition. After 20 min of the treatment, about $2{\mu}g/cm^2$ of benomyl and $1,88{\mu}g/cm^2$ of chlorothalonil were disappeared on the surface of the solid phase.