A Study on the Rotation of Uniaxial Anisotropy Field of NiFe Thin Film by Magnetic Annealing

자기장 내 열처리에 의한 퍼멀로이 박막의 일축 이방성 자기장의 회전에 관한 연구

  • Published : 2001.08.01

Abstract

The rotation of uniaxial anisotropy field of 700 ${\AA}$ thick sputtered NiFe thin film due to magnetic annealing was investigated. NiFe film was annealed in a magnetic field which is perpendicular to the initial induced uniaxial anisotropy field. The NiFe film becomes nearly isotropic after 1 hour annealing at 160 $^{\circ}C$. With increase of annealing temperature over 160 $^{\circ}C$, the film gets uniaxial anisotropy field again. An abrupt increase of H$\sub$c/ was observed with annealing temperature over 400 $^{\circ}C$. The X-ray diffraction analysis and Auger electron spectroscopy with Ar ion etching showed extensive grain growth in NiFe film with (111) texturing and interdiffusion with adjacent Au electrode layer by 400 $^{\circ}C$ magnetic annealing.

DC 마그네트론 스퍼터링법으로 증착된 700 $\AA$의 NiFe 박막을 박막 증착시 형성시킨 자화용이축에 수직한 자기장을 인가하여 열처리한 후 일축 이방성 자기장의 회전을 조사하였다. NiFe 박막은 열처리온도 160 $^{\circ}C$에서 자화용이축과 자화곤란축을 구분할 수 없는 등방적인 상태가 되었고, 열처리온도가 증가함에 따라 다시 일축 이방성을 갖는 상태가 되었다. 열처리 온도가 400 $^{\circ}C$ 이상인 경우에 급격한 보자력의 증가를 보였다. 열처리 온도가 400 $^{\circ}C$인 경우에 XRD 분석과 AES depth profile은 NiFe 박막 내에서 (111) 방향으로 결정성장이 활발히 일어나며 인접한 전극 Au와 상호화산 현상도 광범위하게 일어남을 보여주었다.

Keywords

References

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