Journal of the Microelectronics and Packaging Society (마이크로전자및패키징학회지)
- Volume 8 Issue 3
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- Pages.69-75
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- 2001
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- 1226-9360(pISSN)
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- 2287-7525(eISSN)
Formation of Fine Line and Series Gap Resonator Using the Photoimageable Thick Film Technology
후막 광식각 기술을 이용한 미세라인 및 Series Gap Resonator의 구현
Abstract
Photoimageable thick film technology is a new technology in that the lithography process such as exposure and development is applied to the conventional thick film process. Line resolution of 25
후막광식각 기술은 스크린 인쇄 등의 일반적 후막공정에 노광 및 현상등의 리소그라피 공정 을 접목시킨 새로운 기술이다. 그린시트를 적층한 후 감광성 Ag 페이스트를 도포하고, 패턴을 노광, 현상, 동시소성하여 스크린 인쇄법으로는 어려운 25
Keywords