한국응용과학기술학회지 (Journal of the Korean Applied Science and Technology)
- 제16권1호
- /
- Pages.33-40
- /
- 1999
- /
- 1225-9098(pISSN)
- /
- 2288-1069(eISSN)
DOI QR Code
실리콘기판과 불소부식에 표면에서 금속불순물의 제거
Removal of Metallic Impurity at Interface of Silicon Wafer and Fluorine Etchant
- 곽광수 (충주대학교 공업화학과) ;
- 연영흠 (충북대학교 공과대학 공업화학과) ;
- 최성옥 (충북대학교 공과대학 공업화학과) ;
-
정노희
(충북대학교 공과대학 공업화학과) ;
-
남기대
(충북대학교 공과대학 공업화학과)
- Kwack, Kwang-Soo (Dept. of Ind. and Eng. Chem., Chungju Nat'l. Univ.) ;
- Yoen, Young-Heum (Dept. of Ind. and Eng. Chem., college of Eng., Chungbuk Nat'l. Univ.) ;
- Choi, Seung-Ok (Dept. of Ind. and Eng. Chem., college of Eng., Chungbuk Nat'l. Univ.) ;
-
Jeong, Noh-Hee
(Dept. of Ind. and Eng. Chem., college of Eng., Chungbuk Nat'l. Univ.) ;
-
Nam, Ki-Dae
(Dept. of Ind. and Eng. Chem., college of Eng., Chungbuk Nat'l. Univ.)
- 발행 : 1999.03.31
초록
We used Cu as a representative of metals to be directly adsorbed on the bare Si surface and studied its removal DHF, DHF-
키워드