한국수소및신에너지학회논문집 (Journal of Hydrogen and New Energy)
- 제10권4호
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- Pages.211-217
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- 1999
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- 1738-7264(pISSN)
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- 2288-7407(eISSN)
DC 마그네트론 스퍼터링법에 의해 제조한 TiNi 박막의 증착조건에 관한 연구
A Study on the Deposition Conditions of the TiNi Thin Film by DC Magnetron Sputtering
- 최대철 (경상대학교 재료공학부, 항공기부품기술연구소) ;
- 한범교 (경상대학교 재료공학부, 항공기부품기술연구소) ;
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남태현
(경상대학교 재료공학부, 항공기부품기술연구소)
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안효준
(경상대학교 재료공학부, 항공기부품기술연구소)
- Choi, Dae-Cheol (Department of Metallurgical & Materials Engineering, Gyeongsang National University, Research Center for Aircraft Parts Technology) ;
- Han, Beom-Gyo (Department of Metallurgical & Materials Engineering, Gyeongsang National University, Research Center for Aircraft Parts Technology) ;
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Nam, Tae-Hyun
(Department of Metallurgical & Materials Engineering, Gyeongsang National University, Research Center for Aircraft Parts Technology)
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Ahn, Hyo-Jun
(Department of Metallurgical & Materials Engineering, Gyeongsang National University, Research Center for Aircraft Parts Technology)
- 발행 : 1999.12.15
초록
수소저장합금 전극을 이용하는 박막전지의 제조를 위하여, TiNi 수소저장합금박막의 적정제조조건에 대하여 연구하였다. TiNi합금박막은 직류 스퍼터링을 이용하여 제조하였다. 증착변수인 아르곤유속, 타겔-기판거리, 직류 전력량등을 변화시키면서, 증착속도를 조사하였으며, Ti와 Ni의 화학조성비, 결정구조등을 조사하였다. 증착속도는 아프곤유속, 타겔 기판거리와 반비례하였으며, 직류전력량의 증가에는 정비례하여 증가하였다. 상온에서 증착후에는 비정질구조를 나타냈으나, 진공열처리 후에 결정질로 바뀌었다.
In order to investigate the possibilities of microbatteries using TiNi type metal hydride, TiNi films were prepared by DC magnetron sputtering. The films were deposited under various Ar flow rates, DC powers and target-to-substrate distances to find the optimum sputtering conditions. The deposition rate of TiNi thin film increased by increasing the DC power and by decreasing the Ar flow rate and target-to-substrate distance. The chemical composition of the film changed as a target-to-substrate distance. The crystal structure of the film was amorphous state just after deposition and changed to crystalline by vacuum heat treatment.
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