Preparation of High-Transmittance Glass Thin Films by the Sol-Gel Process

졸-겔법을 이용한 고투과율 유리 박막의 제조

To prepare high-transmittance films, thin films were fabricated on the microscope slide glasses with silicon alkoxides and boric acids as starting materials by using a dip-coating technique. Thicknesses of the thin films were controled as viscosity of the sol used and composition of the $B_2O_3$ was changed at 5, 10, 15 and 20 mol%. Transmittance at visible range and IR transmittance of the films according to the composition were measured, and refractive index of the films were analyzed also. Maximum transmittance at visible range and minimum refractive index were obtained at 15 mol% $B_2O_3$. We will discuss a decrease of the transmittance at 20 mol% on the basis of the refractive index.

고투과율 박막을 제조하기 위하여 실리콘 알콕사이드와 붕산을 출발물질로 사용하고 dip-coating 기술을 이용하여 현미경을 슬라이드 유리 위에 박막을 제조 하였다. 시간에 따른 졸의 정도를 조사하여 박막의 두께를 조절하였고, $B_2O_3$의 량을 5, 10, 15, 20 mol%로 변화하여 박막을 제조하였다. 조성변화에 따른 박막의 가시영역에서의 투과율과 적외선 투과율을 측정하였으며, 이에 따른 박막의 굴절율 변화를 조사하였다. 15 mol% 의 $B_2O_3$가 첨가 되었을 때 가시영역에서의 투과율은 최대였으며, 굴절율은 최소값을 나타냈다. 그러나 20mol%의 $B_2O_3$가 첨가되면 오히려 투과율이 감소하였으며, 우리는 이를 굴절율과 연관지어 설명하고자 한다.