초록
본 연구에서는 개발하고자 하는 저에너지 대면적 전자빔 발생장치는 원리로서 발생원인 글로우 발전에 의한 플라즈마로부터 이온을 음극으로 가속, 충돌하게 하여 그때 발생하는 2차전자를 전자빔원으로 하여 전자를 가속·제어하는데 바탕을 두고 있으며, 본 연구에서는 이러한 원리를 기본으로 이론적 해석을 통한 고효율의 저에너지 대면적 전자빔 발생장치개발의 설계 및 제작에 대해서 연구하였으며, 또한 빔 에너지의 안전성과 방전조건을 고려한 최적의 방전 파라메타를 설정하여 대면적의 균일한 빔 인출을 가능케 하였다.
We have established a pulsed low-energy large-aIXTture electron beam(LELAEB) generation system with an energy of 2OO[keV], current of 1[A], pulse repetition rate of 200[Hz], and several tens of ${\mu}s$ pulse width. The system is characterized by a cold cathode that is simpler than the hot cathode. Electron beam does not need to be scanned over target objects because of large beam aIXTture of $300[\textrm{cm}^2]$. Electron source is secondary electrons that are generated when the ions from the glow discharge collide on the cathode surface. In this paper, We report about the design and manufacture of LELAEB generation system based on the theoretical analysis in order to study lXlssibility of increasing the efficiency of IELAEB accelerator. We also report on the possibility of large aperture beam current generation and the current density uniformity based on the experiIrental results.esults.
