한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)

  • 제9권9호
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  • Pages.932-936
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  • 1999
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  • 1225-0562(pISSN)
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  • 2287-7258(eISSN)
한국재료학회 (Materials Research Society of Korea)
권호 표지

$\textrm{O}_2$ 및 $\textrm{H}_2\textrm{O}$를 산화제로 하는 $\textrm{NH}_3$/$\textrm{O}_2$산화의 성장모델 제안

A Proposal to Growth Model of $\textrm{NH}_3$/$\textrm{O}_2$ Oxidation with species of $\textrm{O}_2$ and $\textrm{H}_2\textrm{O}$

  • 발행 : 1999.09.01
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초록

4NH(sub)3+$3O_2$$\longrightarrow$$2N_2$+$6H_2$O 의 화학반응식을 가지며$ O_2$ 및 $H_2$O를 산화제로 하는 $NH_3$/$O_2$산화의 성장모델을 세웠으며, 그 결과 Fick의 제 1 법칙을 기초로 하는 건식 및 습식 산화메카니즘으로 이해되는 Deal-Grove의 산화막 성장모델과 유사한 결과가 도출되었다. 이 성장모델에 의하면 산화제$ O_2$ 및 $H_2$O가 상호보완적으로 산화에 영향을 미치므로 산화온도 뿐 아니라 $NH_3$/O$_2$의 유량비도 산화율을 결정한다. rapid thermal processing(RTP)에 의한 산화막 성장실험으로 본 연구에서 제안하는 성장모델을 확인하였으며, NH$_3$분자의 분해에 의해 발생하는 N 원자의 산화막 내부확산을 secondary ion mass spectroscopy(SIMS)로 확인하였으며, Auger electron spectroscopy (AES) 측정결과 N 원자의 존재는 무시할만한 수준이었다.

키워드

참고문헌

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