센서학회지 (Journal of Sensor Science and Technology)
- 제8권5호
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- Pages.414-420
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- 1999
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- 1225-5475(pISSN)
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- 2093-7563(eISSN)
PSG 희생층 식각시 Al층을 보호하기 위한 새로운 HF/$NH_4F$ /Glycerine 혼합 식각액
A New HF/$NH_4F$ /Glycerine Aqueous Solution for Protection of Al Layers During Sacrificial Etching of PSG Films
- Kim, Sung-Un (School of Electrical Engineering, Seoul National Univ.) ;
- Paik, Seung-Joon (School of Electrical Engineering, Seoul National Univ.) ;
- Kim, Im-Jung (School of Electrical Engineering, Seoul National Univ.) ;
- Lee, Seung-Ki (Department of Electrical Engineering, Dankook Univ.) ;
- Cho, Dong-Il (School of Electrical Engineering, Seoul National Univ.)
- 발행 : 1999.09.30
초록
희생층을 제거하는 기술은 표면 마이크로머시닝 공정의 핵심기술중 하나이다. 그러나 희생층을 제거하는데 널리 쓰이는 BHF 용액을 포함한 HF 수용액은 희생층 제거시 금속층으로 쓰이는 알루미늄도 같이 식각하는 것으로 알려져 있다. 기존의 문헌에서
The oxide sacrificial layer technology is one of the key technologies in surface micromachining. However, the commonly used aqueous HF solutions, including the
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