Acknowledgement
Supported by : 한국가스공사
References
- Catal. Rev. Sci. Eng. v.32 Amenomiya, Y.;Birss, V. I.;Goledzinowski, M.;Galuszka, J.;Sanger, A. R.
- J. Am. Chem. Soc. v.111 Kharas, K. C. C.;Lunsford, J. H.
- Langmuir v.5 Lunsford, J. H.
- Appl. Catal. A:Genernal v.147 Magali, B. K.;Sven G. J.
- J. Catal. v.151 Ioffe, M. S.;Pollington, S. D.;Wan, J. K. S.
- U. S. Patent No. 3,663,394 Kawahara, Y.
- J. Phys. Chem. v.73 Kawahara, Y.
- Patent 4,574,038 Wan, J. K. S.
- J. Chem. Phys. v.22 McCarty, R. L.
- U.S. Patent 5,015,349 Suib, S. L.;Zhang, Z.
- J. Catal. v.139 Suib, S. L.;Zerger, R. P.
- Plasma Chemistry and Plasma Processing v.6 no.4 Bolouri, K. S.;Amouroux, J.