초록
Pt/Ti/$SiO_2$/Si 기판상에 고주파 마그네트론 스퍼터링 방식으로 PZT 박막[두께:3000 $\AA$]을 증착하고 RTA방식으로 후속 열처리[열처리온도:$550^{\circ}C$~$650^{\circ}C$, 열처리 시간:10초~50 초]를 실시하여 직경 0.2mm소자의 FECAPs(ferroelectric capacitors)를 제작하였다. 제작된 커패시터의 유전상수($\varepsilon_r$)와 잔류분극($2P_r$)은 $650^{\circ}C$로 30초간 열처리한 시편에서 $\varepsilon_r$ (1kHz)=690, 2Pr(-5V~5V sweep)=22$\muC/\textrm{cm}^2$로 가장 높게 나타났으며 유전정접(tan $\delta$)과 누설전류(Jl)는 $600^{\circ}C$에서 30초간 열처리한 시편에서 $tan\delta(\ge10kHz)\le0.02, \; J_i(5V)=3\mu\textrm{A}/\textrm{cm}^2$로 가장 낮게 나타났다.
FECAPS(ferroelectric capacitors) have been fabricated by RF magnetron sputtering deposition of 3000$\AA$ PZT thin films on the Pt/Ti/$SiO_2$/Si substrates and post-annealing with the temperature of $550^{\circ}C$~$650^{\circ}C$ for 10 sec~50 sec in a RTA system. The electrical characteristics of the fabricated capacitors showed the highest dielectric constant and remanent polarization[${\varepsilon_r(1kHz)$=690, $2P_r$(-5V~5V sweep)=22$\mu$C/$ \textrm{cm}^2$] in the samples annealed at $650^{\circ}C$ for 30 sec, while the lowest tangent loss and leakage current [$tan\delta(\ge10kHz)\le0.02, \; J_i(5V)=3\mu\textrm{A}/\textrm{cm}^2$]in the samples annealed at $600^{\circ}C$ for 30 sec.
