Abstract
The magnetic properties change which was induced by addition of small amount of Ni into Cr underlayer in CoCrTa/ CrNi thin film deposited by electron beam evaporator was investigated. The additional Ni element was found to be beneficial for incease in the coercivity of the thin film deposited at the room temperature. The origin of coercivity increase was elucidated by crystal orientation and microstructure investigation using XRD and AFM respectively. It was found that the grain size were increased by Ni addition. The coercivity of the film with CrNi underlayer is lower than that of film with Cr underlayer when prepared with higher substrate temperature. This result may be originated with the increase in grain size. When film was deposited at 280 $^{\circ}C$ substrate temperature, Cr segregation in grain boundary is found to be the other factor for determining coercivity value.
E-Beam Evaporator로 제조된 CoCrTa/CrNi 자성박막에서 하지층인 Cr에 대한 소량첨가원소인 Ni이 자성박막의 자기적 성질에 어떤 영향을 미치는가를 조사하였다. 상온에서 제조된 시편에서 소량의 첨가원소 Ni의 영향은 보자력의 증가를 가져왔음을 알 수 있었다. 이러한 보자력 증가의 원인을 XRD와 AFM으로 그 결정배향성과 미세구조를 통하여 살펴보았다. Cr 하지층에 Ni의 첨가시 결정립의 크기가 증가함을 알 수 있었다. 280 .deg. C 기판온도에서는 CrNi 하지층을 갖는 박막이 오히려 낮은 보자력 값을 나타내었고 이것은 결정립 크기의 증가때문으로 생각된다. 높은 기판온도에서는 결정배향성보다 Cr의 편석이 보자력에 대한 주요한 기구인 것으로 생각된다.