초록
열처리 효과가 DC 마그네트론 스파터링 방법으로 제작한 $Co_{1-x}$ $Ti_{x}$(X = 0.13, 0.16, 0.21 at.%)계 박막의 표면자기특성에 미치는 영향을 조사하기 위하여, 제작된 시료를 150 .deg. C, 175 .deg. C, 200 .deg. C, 225 .deg. C 및 250 .deg. C의 공기 분위기에서 각각 1 시간씩 열처리한 후, 강자성 공명 실험을 통해 관측된 스핀파 공명 흡수선의 거동을 고찰했다. 모든 시료에 대해 다수의 volume mode 스핀파와 한 개 또는 두 개의 surgace mode 스핀파가 관측되었는데, 대체적으로 이와같은 현상은 시료 양면의 표면이방성이 0보다 작은 경우에 나타나는 특성이다. 열처리 온도가 150 .deg. C에서 250 .deg. C로 증가함에 따라 $K_{s2}$는 -0.11 erg/c $m_{2}$에서 -0.25 erg/$cm^{2}$로 미약하게 감소했으며, $K_{s1}$은 0.16 erg/$cm^{2}$에서 -0.53 erg/$cm^{2}$로 변화하는 모습을 보였다. 이와 같은 현상은 저온 열처리 과정(150 .deg. C ~ 200 .deg. C) 에서 공기쪽 표면층에 존재하는 Ti이 산화하여 공기쪽 표면층의 Co함량이 증가했고, 고온 열처리 과정 (225 .deg. C ~ 250 .deg. C)에서 Co 원자가 확산하므로서 나타나는 현상으로 해석된다.석된다.
For amorphous $Co_{1-x}Ti_x$(X=0.13, 0.16, 0.21 at.%) thin films deposited by DC magnetron sputtering method ferromagnetic resonance experiments have been used to investigate the dependence of surface magnetic properties according to annealing temperature (150~225 $^{\circ}C$). Spin wave resonance spectra for all annealing temperatures consist of several volume modes and one(or two) surface mode. It is suggested that both surfaces of the film have a perpendicular hard axis to the film plane(negative surface anisotropy). Also, the surface anisotropy $K_{s2}$ at substrate film interface is varied slowly from -0.11 to -0.25 erg/ $\textrm{cm}^2$ and the surface anisotropy $K_{s1}$ at film-air interface is varied from 0.16 to -0.53 erg/ $\textrm{cm}^2$ with increasing annealing temperature. We conjecture that the variation of surface anisotropy $K_{s1}$ is due to the increase of Co concentration resulted from Ti oxidation for low temperature annealing(150~200 $^{\circ}C$) and the diffusion of Co atoms near the film surfaces for high temperature annealing(225~250 $^{\circ}C$).