Abstract
Most conventional lithography systems have been oriented to fabricate electronic devices. Therefore, it is not so easy to fabricate large aspect ratios of waveguide patterns with those systems. When considering costs and efficiencies, a laser lithography system provides number of benefit in realizing waveguide patterns. However, because the conventional laser lithography system could make only positive tone masks, it is inconvenient in determining the direction of the waveguide. A simple and reliable technique to produce negative tone masks was developed by using the laser beam writing. This technique was not sensitive to environmental situations such as dust, vibration, intensity variation. Making use of the technique a variety of device patterns such as Y-branch, directional coupler, and highly smooth S-shape bend could be successfully fabricated with a good contrast.
가로.세로의 비가 큰 광도파로 소자 제작용 마스크 제작에는 레이저 리소그래피 장치가 기존의 리소그래피 장치에 비해 비용면 등을 고려하면 많은 장점을 가지고 있다. 레이저 리소그래피 장치를 이용 보편적인 양극형 마스크는 물론 기존의 레이저 리소그래피 장치로는 제작하기에 많은 어려움이 있는 음극형 마스크를 포토레지스트의 인위적 변화를 이용 제작할 수 있었다. 제안된 방법은 주변환경 즉 먼지, 장치의 진동 그리고 레이저 입사광 변화 등에 기존의 장치 보다 덜 민감함을 실험적으로 확인하였다. 이 방법을 이용 광도파로 소자의 기본을 이루는 S형태 곡선으로 구성된 광분배기 패턴을 제작하였으며, 제작된 패턴의 대비 및 재현성에 있어서 그 특성이 매우 우수함을 실험적으로 확인하였다.
