센서학회지 (Journal of Sensor Science and Technology)
- 제6권1호
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- Pages.56-62
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- 1997
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- 1225-5475(pISSN)
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- 2093-7563(eISSN)
$PLT(Pb_{1-x}La_{x})Ti_{1-x/4}O_{3}$ 타켓의 제조 및 rf-magnetron sputtering법으로 박막 형성
Fabrication of PLT target and thin film formation by rf-magnetron sputtering method
- Jung, J.M. (Dept. of Electronic Engineering, Kyungpook National Univ.) ;
- Cho, S.H. (Dept. of Electronic Engineering, Kyungpook National Univ.) ;
- Park, S.G. (Dept. of Electronic Engineering, Kyungpook National Univ.) ;
- Choi, S.Y. (Dept. of Electronic Engineering, Kyungpook National Univ.) ;
- Kim, K.W. (Dept. of Electronic Engineering, Kyungpook National Univ.)
- 발행 : 1997.01.31
초록
고주파 마그네트론 스펏터링법을 이용하여 La 성분비에 따른 PLT 박막을 제조하였다. 낮은 분위기압력하에서 PLT 박막은 높은 C 축 배향성을 보였다. PLT 박막의 C축 배향성은 분위기 압력과 La 성분비가 증가할수록 XRD 와 SEM 분석에서 감소함을 확인하였다. La의 성분비가 증가할수록 PLT 박막의 비유전율은 증가하였으며 잔류분극은 감소하였다.
Using a rf-magnetron sputtering method, highly c-axis oriented La modified
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