A Study on the Amorphization Reaction of the Co-Zr Multilayered Thin Film

Co-Zr 다층 박막의 저온 비정질화에 관한 연구

Co-Zr multilayered thin films were prepared by three-gun magnetron sputtering system and low temperature arrorphization was attempted. According to thin film X-ray and cross-sectional TEM analysis, it has been found that zirconium layer is arrorphized by diffusion of cobalt and the amorphization rate at the upper interface is two or three times faster than that at the lower interface of the zirconium layers. This new phenomenon is explained in terms of atomic mixing during sputtering.

3-gun 마그네트론 스퍼터 장치로 Co-Zr 다층 박막을 제작하여 저온 비정질화를 시도하였다. 박막 x-ray와 단면 투과 전자현미경 분석에 의해 지르코늄 층이 코발트의 확산에 의해 비정질화 됨과 그의 위쪽 계면의 지르코늄 비정질화 속도가 아래쪽 계면의 그것보다 두 내지 세배 빠른 것을 발견하였다. 이 현상은 스퍼터링 중의 분자 섞임으로 설명되었다.