참고문헌
- Appl. Phys. Lett. v.53 M. J. McCollum;M. H. Kim;S. S. Bose;B. Lee;G. E. Stillman
- Proc. 6th Intern. Symp. on Gallium Arsenide and Related Compounds R. D. Fairman;M. Omori;F. B. Fank
- J. Cryst. Growth v.58 E. Kuphal;A. Pocker
- J. Electron. Mat. v.12 B. J. Skromme;T. S. Low;T. J. Roth;G. E. Stilman;J. K. Kennedy;J. K. Abrokwah
- J. Electron. Mat. v.12 A. Usui;H. Watanabe
- J. Electrochem. Soc. v.118 J. V. DiLorenzo;G. E. Moore, Jr.
- J. Cryst. Growth v.11 P. Rai-Choundhury
- Inst. Phys. Conf. Ser. v.33b C. M. Wolfe;G. E. Stillman;D. M. Korn
- J. Electron. Mat. v.8 L. Palm;H. Bruch;K. Bachem;D. J. Balk
- J. Cryst. Growth v.43 H. Seki;A. Koukito;H. Seki;M. Fujimoto
- J. Cryst. Growth v.23 R. C. Clarke
- J. Cryst. Growth v.47 J. Chevrier;A. huber;N. T. Linh
- J. Cryst. Growth v.31 H. B. Pogge;B. M. Kemlage
- J. Cryst. Growth v.24 J. K. Kennedy;W. D. Potter;D. E. Davies
- J. Electrochem. Soc. v.129 R. E. Enstrom;J. Appert
- J. Electrochem. Soc. v.137 D. N. Buckley
- Research Report, USAF Rome Air Development Center, F49620-79-C-0038 T. J. Anderson
- SPIE v.822 Raman and Luminescence Spectroscopy in Technology W. M. Duncan
- SPIE v.822 Raman and Luminescence Spectroscopy in Technology N. L. Rowell
- J. Electron. Mat. v.21 C. Park;V. S. Ban;G. H. Olsen;t. J. Anderson;K. P. Quinlan
- J. Cryst. Growth v.60 K. A. Jones
- The Institute of Physics D. A. Anderson;N. Apsley
- J. Phys. C : Solid State Phys v.15 M. S. Skolnick;P. J. Dean
- Cryst. Growth v.96 M. Erman;G. Gillardin;J. Le Bris;M. Renaud;E. Tomzig
- J. Electrochem. Soc. v.137 T. Inoue;H. Shimakura;K. Kainosho;R. Hirano;O. Oda
- Appl. Phys. Lett. v.44 B. J. Skromme;G. E. Stillman;J. D. Oberstar;S. S. Chan
- J. Luminescence v.1 U. Heim;O. Roder;H. J. Queisser;M. Pilkuhn
- J. Cryst. Growth v.64 G. S. Pomrenke
- Apply. Phys. Lett. v.56 S. S. Bose;I. Szafranek;M. H. Kim;G. E. Stillman
- J. Appl. Phys. v.51 J. Chevrier;A. Huber;N. T. Linh
- Inst. Phys. Conf. Ser. no.33b R. D. Fairman;M. Omori;F. B. Fank
- J. Appl. Phys. v.53 J. Chevrier;E. Horache;L. Goldstein;N. T. Linh
- J. Appl. Phys. v.55 P. J. Dean;M. S. Skolnick;L. L. Taylor
- Chemtronics v.3 N. D. Gerrard;D. J. Nicholas;J. O. Williams;A. C. Jones
- J. Appl. Phys. v.57 L. D. Zhu;K. T. Chan;D. K. Wagner;J. M. Ballantyne
- J. Appl. Phys. v.61 K. Uwai;S. Yamada;K. Takahei
- J. Cryst. Growth v.92 O. Aina;M. Mattingly;S. Steinhauser;R. Mariella, Jr;A. Melas
- SPIE v.822 Raman and Luminescence Spectroscopy in Technology S. Ovadia;A. Iliadis
- J. Cryst. Growth v.105 H. Heinecke;B. Bauer;R. Hoger;A. Miklis
- J. Cryst. Growth v.146 Y. Fujiwara;S. Furuta;K. Makita;Y. Ito;Y. Nonogaki;Y. Takeda