Effects of Substrate Temperature and $PH_3$/TMIn Ratio on the Properties of InP Epitaxial Layers Grown by Low Pressure metalorganic Chemical Vapor Deposition

저압 유기금속 화학증착법을 이용한 InP 에피성장에 대한 기판의 온도와 $PH_3$/TMIn 비의 영향

  • 문영부 (서울대학교 무기재교공학과 및 반도체공동연구소) ;
  • 박형수 (삼성종합기술원 광반도체연구실) ;
  • 윤의준 (서울대학교 무기재료공학과 및 반도체공동연구소)
  • Published : 1995.12.01