Journal of the Korean Vacuum Society (한국진공학회지)
- Volume 4 Issue 3
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- Pages.293-300
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- 1995
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- 1225-8822(pISSN)
Effect of Posphorus Dopants in the Thermal Oxidation of Tungsten Polycide Films
텅스텐 폴리사이드막의 열산화에서 인 불순물 효과
Abstract
p-doped poly-Si/SiO2/Si 기판위에 저압 화학증착법(LPCVD)으로 증착한 텅스텐 실리사이드(WS2.7)막을
Keywords