한국진공학회지 (Journal of the Korean Vacuum Society)
- 제4권3호
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- Pages.261-269
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- 1995
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- 1225-8822(pISSN)
in-line XPS와 AFM을 이용한 유기물의 UV/ozone 건식세정과정 연구
UV/ozone Cleaning Processes for Organic Films on Si Studied by in-line XPS and AFM
초록
본 실험에서는 실리콘 웨이퍼 위에 photoresist(PR)와 octadecyltrichlorosilane(OST, CH3((CH2)17SiCI3)를 입혀서 UV/zone 처리를 어떻게 유기물질들이 UV/zone과 반응하여, 어떻게 표면에서 제거되는지를 in-line으로 연결된 XPS로 분석하고 반응시킨 표면들의 거칠기(roughness)를 AFM을 이용하여 관찰하였다. 실험결과 상온에서 UV/zone 처리를 했을 경우, PR과 OTS같은 유기물질이 표면에서 산화되는 것을 알 수 있었으나 이들이 제거되지 않고 표면에 그대로 남아있음을 알 수 있었다. 그러나 가열하면서(PR:
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