한국진공학회지 (Journal of the Korean Vacuum Society)
- 제3권4호
- /
- Pages.405-413
- /
- 1994
- /
- 1225-8822(pISSN)
동시증착에 의한 Si(111)-7$\times$ 7 기판 위에 $TiSi_2$ 에피택셜 성장
In situ Epitaxial Growth of the $TiSi_2$ on si(111)-7$\times$ 7 Substrate by Codeposition
초록
초고진공에서 기판 Si(111)-7
키워드