Evaluation of the in-situ Ellipsometer Mounted on a sputtering Chamber

스퍼터링 챔버에 설치한 in-situ 타원해석기의 성능평가

박막이 성장하는 동안 박막성장 상태를 관찰하기 위한 in-냐셔 타원해석기를 제작하였다. 이 타 원해석기는 He-Ne 레이저를 광원으로 사용하며 회전검광자형으로 광량측정방식을 채택하였다. 이 타원 해석기는 편광자 모듈과 검광자 모듈 및 제어부로 구성되어 있으며 이들 모듈은 각각 스퍼터링 챔버에 부착되었다. c-Si 기판 위에 열산화 과정으로 성장시킨 SiO2 박막을 표준시료로 사용하여 보정 및 성능 평가를 하였다 또한 RF 스퍼터링으로 c-Si 기판 위에 SiO2 박막을 성장시키면서 타원해석상수 ΨΔ를 측정하고 근사적 모델에 의한 ΨΔ의 전산모의 성장곡선과 비교해 보았다.