초록
1$\mu \textrm{m}$이하의 텅스텐 분말에 구리를 균일하게 코팅하는 공정을 새로이 개발했다. 구리가 코팅된 $\mu \textrm{m}$이하의 텅스텐 분말을 이용하여 액상소결하였으며, 구리가 균일하게 분포된 W-Cu합금을 얻을 수있었다. 본 연구에서 개발된 방법에 의해 구리의 함유량을 10wt.%이하로 낮추면서도 균일한 W-Cu합금을 얻을 수 있었으며, 특히 코발트를 같은 방식에 의해 첨가하면 구리액상이 형성된 후 급격히 치밀화하여 96% 이상의 상대밀도를 갖는 W-Cu 합금을 제작하는데 성공하였다. 코발트 첨가에 의한 급격한 치밀화의 증가는 텅스텐과 구리액상 사이의 접착성 향상에 기인하는 것으로 밝혀졌다.
A new process for uniform coating of copper to submicron tungsten powder has been developed. W-Cu alloy where copper can be uniformly distibuted has been made by the liquid phase sintering of thus prepared tungsten powder. It has been found that copper content can be lowered less than IOwt. % in our new process, maintaining the uniform distribution of copper in W-Cu alloy. Relative density above 96% was obtained after the liquid phase sintering when small amount of cobalt was added. It was revealed that the rapid increase of densification rate was due to the enhancement of wettability between tungsten particle and liquid copper.